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加熱爐/電爐產(chǎn)品及廠家

1400℃雙溫區(qū)真空氣氛管式爐GSL-1400X-II
400℃雙溫區(qū)真空氣氛管式爐gsl-1400x-ii以硅碳棒為加熱元件，采用s型單鉑銠熱電偶測(cè)溫和518p溫控儀自動(dòng)控溫。本機(jī)設(shè)有真空裝置，可在多種氣氛下工作，主要用于電子陶瓷產(chǎn)品的預(yù)燒、燒結(jié)、鍍膜、高溫?zé)峤獾蜏爻练e（cvd）等工藝，特別適合批量生產(chǎn)使用。
更新時(shí)間:2025-01-02
1100℃帶校準(zhǔn)系統(tǒng)管式爐GSL-1100X-50-LVT
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：1100℃帶校準(zhǔn)系統(tǒng)管式爐gsl-1100x-50-lvt是分體式真空管式爐，配有 omega 測(cè)溫儀及k 型熱電偶一套，將k型熱偶從左端法蘭安裝于爐管內(nèi)部，即可在omega測(cè)溫儀上讀取樣品實(shí)時(shí)溫度。采用30段可編程溫度控制儀，可根據(jù)實(shí)驗(yàn)要求設(shè)置所需要的升溫速率。但要注意爐體在加熱過程中真空度不能高于10-2torr，否則容易造成爐管的損壞 。
更新時(shí)間:2025-01-02
真空熱壓爐OTF-1200X-VHP4
真空熱壓爐otf-1200x-vhp4是在真空高壓下制備致密化合物材料的理想工具，在5t壓力下可鍵合多層基片。本機(jī)可以加熱到1100 ℃，并設(shè)有30段控溫程序。
更新時(shí)間:2025-01-02
SKJ-M50-16金屬晶體生長(zhǎng)爐
skj-m50-16金屬晶體生長(zhǎng)爐是用坩堝下降法生長(zhǎng)金屬晶體的設(shè)備，可在真空、大氣、惰性氣體或其他保護(hù)氣氛下、在可控的局部壓力狀態(tài)下運(yùn)行。根據(jù)金屬的屬性，本機(jī)可采用中頻感應(yīng)加熱電源，以及石墨電阻加熱兩種加熱方式；采用歐陸微處理器與熱電偶閉環(huán)控制爐溫，使結(jié)晶體按照一定的直徑進(jìn)行控制。
更新時(shí)間:2025-01-02
SKJ-50晶體生長(zhǎng)爐
skj-50晶體生長(zhǎng)爐是用提拉法生長(zhǎng)高質(zhì)量氧化物單晶及金屬單晶，如藍(lán)寶石、ggg、yag、srlaalo4、laalo3、si、ge等，最大可長(zhǎng)出晶體尺寸達(dá)3" 。
更新時(shí)間:2025-01-02
1400℃鐘罩爐KSL-1400X-BL
1400℃鐘罩爐ksl-1400x-bl是大型的鐘罩爐，其最高溫度為1400℃，容積為512l，是金屬退火和高溫?zé)Y(jié)的最佳理想設(shè)備。 1400℃鐘罩爐ksl-1400x-bl是大型的鐘罩爐，其最高溫度為1400℃，容積為512l，是金屬退火和高溫?zé)Y(jié)的最佳理想設(shè)備。 1400℃鐘罩爐ksl-1400x-bl是大型的鐘罩爐，其最高溫度為1400℃，容積為512l，是金屬退火和高溫?zé)Y(jié)的最佳理想設(shè)備。 1400℃鐘罩爐ksl-1400x-bl是大型的鐘罩爐，其最高溫度為1400℃，容積為512l，是金屬退火和高溫?zé)Y(jié)的最佳理想設(shè)備。
更新時(shí)間:2025-01-02
臺(tái)車爐ZWDL-900X
臺(tái)車爐zwdl-900x是箱式高溫?zé)Y(jié)爐，為分體結(jié)構(gòu)，爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用硅碳棒為加熱元件。工件式樣在箱體中加熱，加熱元件均勻的裝于兩壁，有效的保證了溫場(chǎng)的均勻性。測(cè)溫采用性能穩(wěn)定，長(zhǎng)壽命的“s”型熱電偶，以提高控溫的精準(zhǔn)性。
更新時(shí)間:2025-01-02
可滑動(dòng)RTP爐OTF-1200X-4-RTP-SL
可滑動(dòng)rtp爐otf-1200x-4-rtp-sl是一種快速熱處理爐，采用紅外燈加熱和移動(dòng)爐體快速冷卻，可獲得最高升溫速率為100°c/s 、降
更新時(shí)間:2025-01-02
1200℃熔煉、鑄造爐VMCS-1200-LD
200℃熔煉/鑄造爐vmcs-1200-ld最高溫度可達(dá)1200℃，適合在氣氛保護(hù)環(huán)境下熔煉各種合金。采用封閉腔體，以保證在對(duì)樣品熔煉和澆注的過程中不生成氧化物及缺陷。對(duì)于合金探索是理想的實(shí)驗(yàn)幫手。
更新時(shí)間:2025-01-02

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