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清洗機(jī)產(chǎn)品及廠(chǎng)家

SWC-4000 (W) 兆聲晶圓清洗機(jī)
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展,對(duì)mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平,可以幫助用戶(hù)獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-01-06
LSC-5000 (AC) 全自動(dòng)兆聲大基片清洗系統(tǒng)
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展,對(duì)mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平,可以幫助用戶(hù)獲得最干凈的晶圓片和掩模版。nano-master提供兆聲單晶圓&掩模清洗(swc)系統(tǒng),用于最先進(jìn)的無(wú)損兆聲清洗?梢赃m用于易受損的帶圖案或無(wú)圖案的基片,包含帶保護(hù)膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達(dá)到最優(yōu)化的清洗效果,兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。nano-master的專(zhuān)利技術(shù)確保了聲波能量均勻分布到整個(gè)基片表面,通過(guò)分布能量的最大化支持最理想的清洗,同時(shí)保證在樣片的損傷閾值范圍內(nèi)。
更新時(shí)間:2025-01-06
LSC-4000 (D) 兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)
清洗技術(shù)的發(fā)展,對(duì)mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平,可以幫助用戶(hù)獲得最干凈的晶圓片和掩模版。nano-master提供兆聲單晶圓&掩模清洗(swc)系統(tǒng),用于最先進(jìn)的無(wú)損兆聲清洗?梢赃m用于易受損的帶圖案或無(wú)圖案的基片,包含帶保護(hù)膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達(dá)到最優(yōu)化的清洗效果,兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。nano-master的專(zhuān)利技術(shù)確保了聲波能量均勻分布到整個(gè)基片表面,通過(guò)分布能量的最大化支持最理想的清洗,同時(shí)保證在樣片的損傷閾值范圍內(nèi)。
更新時(shí)間:2025-01-06

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