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清洗機產(chǎn)品及廠家

SWC-5000 (AD) 全自動兆聲濕法去膠系統(tǒng)
最新技術的兆聲和清洗技術的發(fā)展，對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-01-06
SWC-3000 (W) 兆聲晶圓清洗機
最新技術的兆聲和清洗技術的發(fā)展，對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-01-06
SWC-4000 (W) 兆聲晶圓清洗機
最新技術的兆聲和清洗技術的發(fā)展，對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-01-06
LSC-5000 (AC) 全自動兆聲大基片清洗系統(tǒng)
最新技術的兆聲和清洗技術的發(fā)展，對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。nano-master提供兆聲單晶圓&掩模清洗(swc)系統(tǒng)，用于最先進的無損兆聲清洗。可以適用于易受損的帶圖案或無圖案的基片，包含帶保護膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達到最優(yōu)化的清洗效果，兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。nano-master的專利技術確保了聲波能量均勻分布到整個基片表面，通過分布能量的最大化支持最理想的清洗，同時保證在樣片的損傷閾值范圍內(nèi)。
更新時間:2025-01-06
LSC-4000 (D) 兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)
清洗技術的發(fā)展，對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。nano-master提供兆聲單晶圓&掩模清洗(swc)系統(tǒng)，用于最先進的無損兆聲清洗？梢赃m用于易受損的帶圖案或無圖案的基片，包含帶保護膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達到最優(yōu)化的清洗效果，兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。nano-master的專利技術確保了聲波能量均勻分布到整個基片表面，通過分布能量的最大化支持最理想的清洗，同時保證在樣片的損傷閾值范圍內(nèi)。
更新時間:2025-01-06

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