清洗機(jī)產(chǎn)品及廠家
炭化灰化熱清洗一體機(jī)原理概要：本一體機(jī)先將樣品炭化灰化室內(nèi)空氣抽出，在微負(fù)壓的密閉條件下，油品/粘稠有機(jī)物通過程序升溫與恒溫，進(jìn)行無氧蒸發(fā)熱解、無焰炭化、有氧灰化等步驟
更新時間:2025-01-06
該清洗機(jī)的主要用途是用于清洗實驗用玻璃及金屬器皿,如燒杯、燒瓶、蒸餾釜、接收管等,特別是對于有機(jī)實驗、石油化工實驗以及生物醫(yī)療實驗器皿,更加適用。由于實驗器皿熱清洗器利用無焰燃燒原理在一定溫度下使玻璃與金屬器皿中的有機(jī)物產(chǎn)生無焰燃燒,而且對清洗過程產(chǎn)生的煙氣也作催化清潔處理。
更新時間:2025-01-06
真空等離子清洗機(jī)，真空等離子清行，進(jìn)口系統(tǒng)可選，多種配置可選
更新時間:2025-01-06
大氣等離子清洗機(jī)，等離子清洗，多種槍頭可選，多種配置可選
更新時間:2025-01-06
大氣低溫等離子清洗機(jī) ，等離子清洗，多種槍頭可選，多種配置可選
更新時間:2025-01-06
眾瀕小型射頻真空等離子清洗機(jī)實驗室桌面儀器表面改質(zhì)親水性提升，真空低溫清洗，更適合易熱形變類物體，雙路氣體接入，智能中控，操作更簡單。
更新時間:2025-01-06
眾瀕5l真空等離子清洗機(jī)，真空低溫清洗，更適合易熱形變類物體，雙路氣體接入，智能中控，操作更簡單。
更新時間:2025-01-06
眾瀕柔性微電子打印機(jī) 液態(tài)金屬導(dǎo)電噴墨，為微電子打印機(jī)。點膠、刮涂、噴墨三工藝，可打印范圍廣，高性價比。為微電子打印機(jī)。點膠、刮涂、噴墨三工藝，可打印范圍廣，高性價比。
更新時間:2025-01-06
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-01-06
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-01-06
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-01-06
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。nano-master提供兆聲單晶圓&掩模清洗(swc)系統(tǒng)，用于最先進(jìn)的無損兆聲清洗？梢赃m用于易受損的帶圖案或無圖案的基片，包含帶保護(hù)膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達(dá)到最優(yōu)化的清洗效果，兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。nano-master的專利技術(shù)確保了聲波能量均勻分布到整個基片表面，通過分布能量的最大化支持最理想的清洗，同時保證在樣片的損傷閾值范圍內(nèi)。
更新時間:2025-01-06
清洗技術(shù)的發(fā)展，對mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。nano-master提供兆聲單晶圓&掩模清洗(swc)系統(tǒng)，用于最先進(jìn)的無損兆聲清洗？梢赃m用于易受損的帶圖案或無圖案的基片，包含帶保護(hù)膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達(dá)到最優(yōu)化的清洗效果，兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。nano-master的專利技術(shù)確保了聲波能量均勻分布到整個基片表面，通過分布能量的最大化支持最理想的清洗，同時保證在樣片的損傷閾值范圍內(nèi)。
更新時間:2025-01-06
最新產(chǎn)品
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