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清洗機產品及廠家

高壓漩渦氣泵 GHBH 017 36 AR9 管道耐高溫高壓風機
高壓漩渦氣泵 ghbh 017 36 ar9 管道耐高溫高壓風機 風貝克風機是吸送兩用風機,高壓鼓風機,雙段高壓鼓風機,雙葉輪風機 耐高溫風機 精品鼓風機鼓風機 工業(yè)鼓風機品質好 外觀美 質量三包 價格優(yōu)惠 供貨還快 不信試試
更新時間:2025-01-06
高壓漩渦風機 GHBH 017 36 1R9 防爆高壓風機
高壓漩渦風機 ghbh 017 36 1r9 防爆高壓風機高壓風機功能特點:1、具備一機兩用功能,同一款產品同時具備吸風和吹風功能。并且還能同時2、采用的是無油運轉,能使鼓風機輸出的空氣更加的干凈純凈。使用吸風和吹風功能。3、壓力高、風量大、噪音低、機器重量輕。環(huán)形高壓鼓風機轉子與轉子、轉子與機體之間的間隙小,大增加了風的壓力。
更新時間:2025-01-06
油污器皿自動清洗機
【簡單介紹】 syx-16油污器皿自動清洗機由不銹鋼內箱、網狀隔板、壓縮機制冷組件、冷凝水箱、冷卻器、溶劑回收等部件組成,其電子線路由單片微機控制,具有快速清洗、清洗完全、節(jié)省溶劑,完全取代人工清洗。應用于各實驗室重質油、瀝青污染的各類容器的清洗。
更新時間:2025-01-06
炭化灰化熱清洗一體機
炭化灰化熱清洗一體機原理概要:本一體機先將樣品炭化灰化室內空氣抽出,在微負壓的密閉條件下,油品/粘稠有機物通過程序升溫與恒溫,進行無氧蒸發(fā)熱解、無焰炭化、有氧灰化等步驟
更新時間:2025-01-06
實驗器皿熱清洗器
該清洗機的主要用途是用于清洗實驗用玻璃及金屬器皿,如燒杯、燒瓶、蒸餾釜、接收管等,特別是對于有機實驗、石油化工實驗以及生物醫(yī)療實驗器皿,更加適用。由于實驗器皿熱清洗器利用無焰燃燒原理在一定溫度下使玻璃與金屬器皿中的有機物產生無焰燃燒,而且對清洗過程產生的煙氣也作催化清潔處理。
更新時間:2025-01-06
真空等離子清洗機 表面改性處理活性增強 實驗室設備工業(yè)用
真空等離子清洗機,真空等離子清行,進口系統(tǒng)可選,多種配置可選
更新時間:2025-01-06
大氣等離子清洗機 表面活化改性處理活性增強工業(yè)設備實驗室用
大氣等離子清洗機,等離子清洗,多種槍頭可選,多種配置可選
更新時間:2025-01-06
大氣低溫等離子清洗機 表面改性處理活性增強實驗室設備工業(yè)
大氣低溫等離子清洗機 ,等離子清洗,多種槍頭可選,多種配置可選
更新時間:2025-01-06
眾瀕小型射頻真空等離子清洗機實驗室桌面儀器表面改質親水性提升
眾瀕小型射頻真空等離子清洗機實驗室桌面儀器表面改質親水性提升,真空低溫清洗,更適合易熱形變類物體,雙路氣體接入,智能中控,操作更簡單。
更新時間:2025-01-06
眾瀕5L真空等離子清洗機低溫塑料清洗表面改性實驗室小型儀器工業(yè)
眾瀕5l真空等離子清洗機,真空低溫清洗,更適合易熱形變類物體,雙路氣體接入,智能中控,操作更簡單。
更新時間:2025-01-06
柔性微電子打印機 液態(tài)金屬導電噴墨打印電路電板印刷電子Scientific4
眾瀕柔性微電子打印機 液態(tài)金屬導電噴墨,為微電子打印機。點膠、刮涂、噴墨三工藝,可打印范圍廣,高性價比。為微電子打印機。點膠、刮涂、噴墨三工藝,可打印范圍廣,高性價比。
更新時間:2025-01-06
SWC-5000 (AD) 全自動兆聲濕法去膠系統(tǒng)
最新技術的兆聲和清洗技術的發(fā)展,對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平,可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-01-06
SWC-3000 (W) 兆聲晶圓清洗機
最新技術的兆聲和清洗技術的發(fā)展,對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平,可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-01-06
SWC-4000 (W) 兆聲晶圓清洗機
最新技術的兆聲和清洗技術的發(fā)展,對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平,可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時間:2025-01-06
LSC-5000 (AC) 全自動兆聲大基片清洗系統(tǒng)
最新技術的兆聲和清洗技術的發(fā)展,對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平,可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。nano-master提供兆聲單晶圓&掩模清洗(swc)系統(tǒng),用于最先進的無損兆聲清洗?梢赃m用于易受損的帶圖案或無圖案的基片,包含帶保護膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達到最優(yōu)化的清洗效果,兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。nano-master的專利技術確保了聲波能量均勻分布到整個基片表面,通過分布能量的最大化支持最理想的清洗,同時保證在樣片的損傷閾值范圍內。
更新時間:2025-01-06
LSC-4000 (D) 兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)
清洗技術的發(fā)展,對mems和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平,可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。nano-master提供兆聲單晶圓&掩模清洗(swc)系統(tǒng),用于最先進的無損兆聲清洗。可以適用于易受損的帶圖案或無圖案的基片,包含帶保護膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達到最優(yōu)化的清洗效果,兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。nano-master的專利技術確保了聲波能量均勻分布到整個基片表面,通過分布能量的最大化支持最理想的清洗,同時保證在樣片的損傷閾值范圍內。
更新時間:2025-01-06
德國 PVA TePla 等離子清洗機
德國 pva tepla 等離子清洗機ion 100 wb,旨在滿足客戶大批量生產的需求,著重于表面處理的多功能性和可控性。其先進的性能提供了出色的工藝控制、失效報警系統(tǒng)和數(shù)據(jù)采集軟件。
更新時間:2025-01-03
美國UVOCS  紫個臭氧清洗機
堅固耐用,全部不銹鋼結構。uvo清洗設備的核心是低壓石英汞燈,產生254和185nm范圍的紫外線。臭氧和 等離子氧氣產生,有機污染物分子在吸收254nm波長紫外線后被激發(fā)或分解;激發(fā)的 有機污染物可以和等離子氧原子反應形成氣體,比如co₂,等。可以去除皮膚油脂,有機硅油和油脂,助焊劑,殘留的光刻膠,膠水溶劑,碳等。
更新時間:2025-01-03
藍星宇UVO清洗改質機
uv臭氧清洗改質機lxy-pl110x16清除玻璃/塑料/金屬/陶瓷/硅/電子器件等表面有機污染, 適合生產過程流水線批量作業(yè)。
更新時間:2025-01-03
藍星宇UV清洗改質機
uv臭氧清洗改質機lxy-pl110x16清除玻璃/塑料/金屬/陶瓷/硅/電子器件等表面有機污染, 適合生產過程流水線批量作業(yè)。
更新時間:2025-01-03

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