X射線由Mo靶或W靶產生，在Ni/C人工多層膜上反射并單色化。扁平的光束以非常小的角度（0.3 – 0.6 °）掠射裝有樣品的樣品架，并產生全反射。樣品所產生的特征熒光被能量色散探測器（XFlash® detector） 探測，強度通過偶合的多通道分析器測量。
與常規(guī)的XRF最大的不同，全反射熒光（TXRF）是使用了單色光和全反射光學部件。以全反射光束照射樣品，降低了吸收、以及樣品及襯底材料對光的散射。結果是大大降低了背景噪音，因此有高的多的靈敏度和明顯地降低了基體效應。 全反射熒光（TXRF）的最主要優(yōu)點是，相對于其他原子波譜分析法，如AAS 或 ICP-OES，無記憶效應。 全反射熒光分析法，樣品必須制備在能全反射X射線的樣品架上。因此，樣品架的直徑30mm，材料通常是丙烯酸或石英玻璃。 液體樣品直接滴在樣品架上，通常是使用微量移液管轉移幾微升（µl）試液到樣品架上。然后在干燥器里蒸發(fā)或在烘箱中干燥。 固體樣品，有不同的制樣方法。粉末樣品（懸浮質、土壤、礦物、金屬、色素、生化樣品，等等）可以把樣品直接放在樣品架上直接測量。典型的方法是，使用小勺或無塵紙轉移幾微克（µg）的樣品到樣品架上。 單個的微量樣品（顆粒，長條等）也可以用類似的方法直接制樣。 另外，粉末樣品可以使用揮發(fā)性溶劑如丙酮或甲醇制成懸浮液，懸浮液用移液管轉移到樣品架上，還可以使用微波消解的辦法。
主要特點：
主要技術特點 可對固體、粉末、液體、懸浮物、過濾物、大氣飄塵、薄膜樣品等進行定性、定量分析，元素范圍13Al-92U，含量范圍ppb至100%，檢出限到2pg。 需要樣品量少，液體及懸浮物樣品1-50微升，粉末樣品10微克以內。 圖2.4 S2 PICOFOX 獨特的便攜式全反射熒光儀，設備小巧，一體化結構設計，不需要任何輔助設備及氣體、液氮等，可拿到現(xiàn)場進行分析。 1位及25位全自動進樣器兩款設計，分別適用于每天有少量樣品及大批量樣品的全自動分析。 第四代XFlash®SDD硅漂移探測器，采用帕爾貼冷卻技術，不需要液氮，沒有任何消耗。分辨率優(yōu)于160eV at MnKa 100Kcps。 由于全反射無背景，熒光強度與元素含量直接成正比。標準曲線工廠已校準好，用戶不需要標樣就可以進行定量分析。 應用：水、廢水、土壤中的污染元素；血液、尿液、組織中的有毒元素；食品、醫(yī)藥、刑偵、環(huán)保、陶瓷、水泥、建材、地質等領域。
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臺式小型主機，配備全自動開關的大樣品室。適應固體、液體、粉體、光盤、薄膜等各種類型的樣品。擴展性，16/8樣品交換、真空/He氣氛、4種準直儀、使用CCD攝像頭觀察樣品等，900型的檢測器為電子制冷。 能量散射型X射線熒光光譜儀EDX-720/800HS/900HS型操作: 一鍵式操作,簡單方便,快捷!專家和普通員工都可以使用EDX720得到相同的結果. 能量散射型X射線熒光光譜儀EDX-720/800HS/900HS型技術參數(shù) 1.分析元素：11Na-92UEDX-720,可以檢測ROHS指令以外其它元素. 2.樣品型狀：最大300mmФ×150mmH ,可以滿足樣品的不規(guī)則性. 3. X射線濾鏡：5種自動交換,可以消除背景元素干擾,使儀器分析精度高于其它儀器. 4.能量分辨率:Si/Li檢測器,145eV. 4.檢測下限: Cd:1.7ppm;Pb:2ppm;Cr:2ppm;Br:2ppm;Hg:2ppm.滿足ROHS指令和索尼STM-0083標準. 5.軟件： 定性分析－測定/解析軟件。定量分析－工作曲線法，共存元素校正、FP法、薄膜FP法、BG-FP法 EDX-720主要特點： 1、無需前處理,非破環(huán)性,快速分析30秒～5分鐘; 2、的定性分析；元素測定范圍寬范圍從Na11～U92; 3、精確的定量分析,根據(jù)不同元素.可精確到1.7PPM～3.7PPM; 4、可以替代傳統(tǒng)的ICP測試方法。 5、配置新型濾光片，提高Pb、Cd等的靈敏度提高2倍。 6、配置高計數(shù)率電路，增加檢測器的計數(shù)量，計數(shù)率為3000~12000CPS。 7、增加時間縮短功能，由熒光X射線強度算出測定精度，自動判斷所需最少測定時間。 8、增加自動工作曲線選擇功能，依據(jù)識別樣品種類的不同而選擇最適宜的工作曲線。 9、目前全球銷量,已被SONY, Canon, SANYO,NEC,ALPS,HP, SAMSUNG, BENQ,ASUS,DELTA等知名大廠廣泛采用. 能量散射型X射線熒光光譜儀EDX-720/800HS/900HS型應對ROHS歐洲化學物質法規(guī), 為電子電器出口商提供快速、安全、的測試手段,日本島津公司的EDX系列X射線光譜議可以提供完整解決方案.
儀器介紹
環(huán)保是世界的潮流，不斷出現(xiàn)的環(huán)境污染事件，如近日的陜西鳳翔的血鉛超標事件，使人們日益關注自身的健康，關注有害元素對人的危害，世界各國都陸續(xù)出臺了相關控制商品中有害元素含量的法規(guī)，而且對有害元素的限制值呈日漸降低的趨勢，例如，2006年7月1日實施的歐盟RoHS指令中鉛元素限制值是1000ppm,近期實施的美國消費品安全法（簡稱CPSIA），鉛元素限制值降低到90ppm。面對這市場需求，秉承“天瑞儀器，無微不至”的精神，采用技術，特別設計了SUPER系列的X熒光光譜儀。
性能特點
1. 采用天瑞專利技術――獨特的激發(fā)X光源，樣品激發(fā)結構和探測系統(tǒng)，大大提高儀器元素的檢測靈敏度（降低檢出限）；2. 具有現(xiàn)代化的外觀，結構和色彩，上蓋電動控制開關，更人性化；3. 準直器，濾光片自動切換，可適應不同的樣品測試要求；4. 大容量的樣品腔和高清攝像頭，樣品測量更靈活方便。5.配備功能齊全的測試軟件。
技術指標
元素分析范圍從硫（S）到鈾（U）。分析含量一般為0.1ppm到99.9％。有害元素檢出限比普通的臺式X熒光光譜儀有極大的提高。多次測量重復性可達0.1％。工作穩(wěn)定性為0.1％。溫度適應范圍為15℃至30℃。電源。交流220V±5V。建議配置交流凈化穩(wěn)壓電源。
標準配置
超銳X光源和樣品激發(fā)機構。上蓋電動開關的大容量樣品腔。可自動切換的準直器，濾光片。高清晰CCD攝像頭。Si-PIN探測器。信號檢測電子電路。高低壓電源。計算機及噴墨打印機。專業(yè)X熒光分析軟件
應用領域
金屬冶金行業(yè)微量元素的分析及金屬中微量有害元素的分析環(huán)保土壤、空氣及水等介質中痕量重金屬的分析金屬成品制造行業(yè)樹脂膜層中微量元素的分析貴金屬行業(yè)中微量對人體有害元素微量元素的分析稀土行業(yè)中微量元素的分析金屬鍍層行業(yè)金屬鍍層亞納米級厚度的分析外貿出口行業(yè)中對人體有害元素微量的分析玩具出口行業(yè)中八大中金屬微量元素的分析
1）一機多功能可檢測: 紫外吸收光譜,圓二色光譜,總熒光譜,光散色譜, 線二色譜及熒光各相異性譜 2）各路獨立步進電機控制快速動力學停流裝置
圓二色光譜儀技術特點：1） 光源: 同時裝置兩個光源150W氙燈及150W汞氙燈。 2） 檢測功能: 紫外吸收光譜,圓二色光譜,總熒光譜,光散色譜,線二色譜及熒光各相異性譜。 3） 波長范圍: 180~900 nm 4） 波長度:±0.1 nm （180-900nm） 5） 光學系統(tǒng): 雙光柵 （1200條/mm） 6） 雜散光: ＜3 x 10-5 （222nm） 7） 噪聲: 熒光檢測 水拉曼峰信噪比﹥2000:1 紫外檢測 5 x 10-5AU rms 圓二色檢測 0.01mdeg （水rms值,222nm, 1nm頻寬, 16秒積分時間） 8） 基線穩(wěn)定性: ＜0.01mdeg/hr 9） 采樣頻率: 10 u秒./每點 – 1000 秒/每點。
全譜直讀光譜儀9800L
應用域
全譜直讀光譜儀9800L是我公司引進歐洲技術生產,是目國際認為的CCD光譜儀技術, 廣泛應用于冶金、鑄造、機械、汽車制造、航空航天、兵器、金屬加工等域的生產工藝控制，爐化驗，中心實驗室成品檢驗。落地式全譜直讀光譜儀9800L體積小、穩(wěn)定性好、檢測限低、分析速度快、運行成本低、操作維護方便，是控制產品質量的理想選擇。
產品優(yōu)勢
1、CCD全譜光譜儀制造技術（數(shù)字化技術替代老式體積龐大笨重的光電倍增電子管模擬技術）、通道不受限制；
2、引進歐洲技術、同國際光譜儀技術同步，國內一家也能生產真空CCD全譜技術光譜儀的制造商；
3、基體范圍內通道改變、增加不需費用；
4、升多基體方便，無須變動增加硬件；
5、優(yōu)良的數(shù)據(jù)穩(wěn)定性，同一樣品不同的時間段分析，可獲得良好的數(shù)據(jù)一致性；
6、體積小、重量輕， 移動安裝方便；
7、高集成度、高性、高穩(wěn)定性；
8、節(jié)電、節(jié)材、能耗只是普通光譜儀50%。
主要特點
1、可測定包括痕量碳（C），磷（P）,硫（S）元素,適用于多種金屬基體，如：鐵基，鋁基，銅基，鎳基，鉻基，鈦基，鎂基，鋅基，錫基和鉛基。全譜技術覆蓋了全元素分析范圍，可根據(jù)客戶需要選擇通道元素；
2、分析速度快捷，20內測完所有通道的元素成分。針對不同的分析材料，通過設置預燃時間及標線，使儀器用較短的時間達到較優(yōu)的分析效果；
3、光學系統(tǒng)采用真空恒溫光室， 激發(fā)時產生的弧焰由透鏡直接導入真空光室，實現(xiàn)光路直通,消除了光路損耗，提高檢出限，測定結果，重現(xiàn)性及穩(wěn)定性較佳；
4、特殊的光室結構設計，使真空室容積更小，抽真空速度不到普通光譜儀的一半；
5、自動光路校準，光學系統(tǒng)自動進行譜線掃描，確保接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動識別特定譜線，與原存儲線進行對比，確定漂移位置，找出分析線當?shù)南袼匚恢眠M行測定；
6、開放式的電及架設計，可以調整的樣品夾，便于各種形狀和尺寸的樣品分析；
7、工作曲線采用國際標樣，預做工作曲線，可根據(jù)需要延伸及擴展范圍，每條曲線由多達幾十塊標樣激發(fā)生成，自動扣除干擾；
8、HEPS數(shù)字化固態(tài)光源，適應各種不同材料 ；
9、固態(tài)吸附阱，防止油氣對光室的污染，提高運行穩(wěn)定性；
10、銅火花臺底座，提高散熱性及堅固性能；
11、合理的氬氣氣路設計，使樣品激發(fā)時氬氣沖洗時間縮短，為用戶節(jié)省氬氣，氬氣消耗不到普通光譜儀的一半；
12、采用鎢材料電及，電及使用壽命更長，并設計了電及自吹掃功能，清潔電及更加容易；
13、高性能DSP及ARM處理器，具有高高速數(shù)據(jù)采集及控制功能并自動實時監(jiān)測光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊的運行狀況；
14、儀器與計算機之間采用以太網連接，抗干擾性能好，外部計算機升與儀器配置無關，使儀器具有更好的適用性；
15、核心器件全部原裝進口，了儀器優(yōu)良的品質。
技術參數(shù)
1、光學系統(tǒng)
光學結構：帕邢-龍格結構的全譜真空型光學系統(tǒng)
光室溫度：自動控制恒溫：35℃±0.5℃
波長范圍：160-800nm
光柵焦距：350 mm
光柵刻線：3600 l/mm
Ⅰ光譜線色散率：1.2 nm/mm
探測器：多塊高性能線陣CCD
平均分辨率：10pm/pixel
2、激發(fā)臺
氣體：沖氬式
氬氣流量：激發(fā)時3-5L/min， 待機時:無須待機流量
電及：鎢材噴射電及技術
吹掃：點擊自吹掃功能
補償：熱變形自補償設計
分析間隙：樣品臺分析間隙：4mm
3、激發(fā)光源
類型：HEPS數(shù)字化固態(tài)光源
頻率：100-1000Hz
放電電流：1-80A
特殊技術：放電參數(shù)優(yōu)化設計
預燃：高能預燃技術
4、數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)
處理器：高性能ARM處理器，高速數(shù)據(jù)同步采集處理
接口：基于DM9000A的以太數(shù)據(jù)傳輸
5、電源與環(huán)境要求
輸入：220VAC 50Hz
功率：分析時醉大700W，待機狀態(tài)40W
工作溫度：10-30℃（該溫度范圍內溫度變化不大于5℃/h）
工作濕度：20-80%
6、尺寸與重量
尺寸：800*450*500 mm
重量：120Kg