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等離子清洗機(jī)

Femto 是一款小型等離子清洗機(jī)
 
小巧緊湊型的設(shè)計(jì)使它能夠放在桌面上運(yùn)行
 
它能提供良好的表面清潔功能和改性效果
 
它的優(yōu)點(diǎn)是可靠和可重復(fù)性,即便是連續(xù)工作
 
Femto 由以下幾個(gè)基本單元組成(如需了解具體配置及參數(shù)請(qǐng)聯(lián)系我們)
 
一個(gè)40KHz射頻電源;功率:0-100W 無(wú)極可調(diào)
一個(gè)浮子流量計(jì);一路工藝氣體通道
一個(gè)不銹鋼艙體;尺寸φ100mm ;L 270mm
半自動(dòng)控制系統(tǒng);帶有數(shù)字計(jì)時(shí)器
一個(gè)真空泵
 
設(shè)備主要應(yīng)用領(lǐng)域如下
 
半導(dǎo)體制造    
LED外延及封裝
汽車(chē)制造
航空航天
科研院所
光伏新能源
生物醫(yī)學(xué)
液晶顯示
消費(fèi)電子(手機(jī)、電腦等零配件的生產(chǎn)制造)
信息通信
精密光學(xué)
其他
 
相同型號(hào)的設(shè)備配置不同時(shí)外觀及尺寸會(huì)有差異,請(qǐng)參考
該公司產(chǎn)品分類(lèi): 等離子清洗機(jī)

KT實(shí)驗(yàn)型低溫等離子清洗機(jī) 桌面等離子13.56MHz清洗機(jī)

         等離子清洗機(jī)屬于13.56MHz的射頻電源。作為一種精密干法清洗設(shè)備,主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業(yè)的精密清洗,塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學(xué)實(shí)驗(yàn)等。

 

   該清洗機(jī)內(nèi)置不高純石英倉(cāng)體,容積為2升,結(jié)構(gòu)為國(guó)際上的通用結(jié)構(gòu)。采用了新型的外觀結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和固態(tài)電源技術(shù),使其有效容積增大,不同真空 氣體環(huán)境下容易匹配,且控制頻率穩(wěn)定。真空倉(cāng)門(mén)有觀察窗,可直觀物體的處理過(guò)程,其射頻電源與控制都組裝在一個(gè)機(jī)箱內(nèi),即減少了空間的占用,更便于操作和放置,同時(shí)與大型清洗機(jī)相比較,從檢測(cè)功能與控制功能的設(shè)置上均可一個(gè)面板上操作,特別適用科學(xué)實(shí)驗(yàn)樣品清洗 和教學(xué)。    等離子清洗機(jī)具備有超清洗功能,并且在特定條件下還可根據(jù)需要改變用于某些材料表面的性能,如把等離子清洗機(jī)的等離子體作用于材料表面,使表面分子的化學(xué)鍵發(fā)生重組,形成新的表面特性。RFC-2C在超清洗過(guò)程中等離子清洗機(jī)的輝光放電不但能夠加強(qiáng)多數(shù)材料的粘附性、相容性和浸潤(rùn)性,并可消毒和殺菌。RFC-2C等離子清洗機(jī)廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域聯(lián)系電話:手機(jī)/微信:152 8682 QQ:760625767聯(lián)系人:李工

 

該公司產(chǎn)品分類(lèi): 傳感器 實(shí)驗(yàn)室搭建 材料樣品處理 實(shí)驗(yàn)室氣體配比器 材料樣品檢測(cè) 材料樣品封裝 真空探針臺(tái) 分子泵 質(zhì)量流量配比器 等離子清洗機(jī) 石英管封口機(jī) 真空腔體 氣體配比器

PDC-32GHARRICK小型等離子清洗機(jī)

 等離子體清洗機(jī)
高校實(shí)驗(yàn)室真空等離子清洗機(jī)
等離子清洗工藝
全國(guó)高校銷(xiāo)量冠軍 5L小型實(shí)驗(yàn)室等離子清洗機(jī) 實(shí)驗(yàn)室標(biāo)配等離子清洗機(jī)

MYCRO邁可諾公司提供美國(guó)原裝進(jìn)口等離子清洗機(jī)/表面處理儀,請(qǐng)您放心選購(gòu)!基本型:PDC-32G-2擴(kuò)展型:PDC-002增強(qiáng)型:PDC-002-HPHarrick等離子清洗機(jī)等離子表面活化儀 等離子表面處理儀Plasma Surface Treatment System美國(guó)Harrick等離子清洗機(jī)Plasma Cleaner美國(guó)原裝進(jìn)口Harick等離子清洗機(jī)美國(guó)PDC-32G-2等離子清洗機(jī)美國(guó)PDC-002等離子清洗機(jī)美國(guó)PDC-FMG-2 PlasmaFlo氣流混合器plasma  cleaner pdc-002  PDC-32G-2、PDC-002 進(jìn)口等離子清洗器  Gas plasma Dry cleanerPDC-32G Basic Plasma Cleaner  美國(guó)Harrick等離子清洗機(jī)Plasma Cleaner PDC-32G-2  實(shí)驗(yàn)室等離子清洗機(jī) plasma cleaner技術(shù)  harrick pdc-002 等離子清洗機(jī)臺(tái)式 plasma清洗機(jī)  harrick pdc-002說(shuō)明書(shū) 等離子清洗活化pdc  pdc002等離子清洗器 美國(guó)等離子體清洗機(jī)  pdc-32g等離子清潔儀

Harrick Plasma公司的等離子體表面處理儀是一種小型化、超清洗設(shè)備。該款等離子體表面處理儀采用氣體作為清洗介質(zhì),有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來(lái)的二次污染。這款等離子體表面處理儀外接一臺(tái)真空非破壞性的泵,工作時(shí)等離子體表面處理儀的清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面。這款等離子體表面處理儀短時(shí)間的清洗就可以使有機(jī)污染物被徹底地清洗掉,同時(shí)污染物被等離子體表面處理儀的真空泵抽走,這款等離子體表面處理儀的清洗程度達(dá)到分子級(jí)。等離子體表面處理儀的產(chǎn)品特征:* 緊湊的臺(tái)式設(shè)備、沒(méi)有RF放射、符合CE安全標(biāo)準(zhǔn)。* 功率為低、中、高三檔可調(diào)。* 兩種型號(hào): 基本型:PDC32G清洗艙:長(zhǎng)6.5英寸,直徑3英寸;  整機(jī)尺寸:8英寸H×10英寸W×8英寸擴(kuò)展型:PDC002  清洗艙:長(zhǎng)6.5英寸,直徑6英寸;艙蓋具備鉸鏈和磁力鎖,并有一個(gè)可視窗口。 整機(jī)尺寸:11英寸H×18英寸W×9英寸D等離子體表面處理儀除了PDC-32G-2 基礎(chǔ)型和PDC-002 擴(kuò)展型 兩種常規(guī)機(jī)型的等離子清洗機(jī)以外,我們還提供以下配件選項(xiàng):氣流混合器 配套進(jìn)口真空干泵 進(jìn)口真空油泵等離子體表面處理儀的優(yōu)點(diǎn):  1.完全徹底地清除表面有機(jī)污染物。2.清洗快速、操作簡(jiǎn)便、使用和維護(hù)成本極低。3.非破壞性、對(duì)被清洗物表面光潔度無(wú)損害。4.綠色環(huán)保、不使用化學(xué)溶劑、無(wú)二次污染。5.常溫條件下清洗,被清洗物的溫度變化微小。6.能清洗各種幾何形狀、粗糙程度各異的表面。美國(guó)Harrick系列等離子清洗器 由香港邁可諾技術(shù)監(jiān)制直銷(xiāo),邁可諾營(yíng)銷(xiāo)服務(wù)中心技術(shù)支持,品牌保證。需要更詳細(xì)的產(chǎn)品資料咨詢(xún),請(qǐng)與邁可諾技術(shù)有限公司中國(guó)營(yíng)銷(xiāo)服務(wù)中心區(qū)域辦公室聯(lián)系!
該公司產(chǎn)品分類(lèi): 超聲波清洗機(jī) 狹縫涂布機(jī) 熱板/烤膠機(jī) 紫外臭氧清洗機(jī) 壓片機(jī) 等離子清洗機(jī) 勻膠機(jī)

GDR-10PR臺(tái)式等離子清洗機(jī)

◆ 設(shè)備外形尺寸

630(W)×650(D)×420(H)mm

 ◆ 倉(cāng)體結(jié)構(gòu)(耐熱玻璃或石英玻璃,約10升)

 Φ215 × 300(L) mm

 ◆ 電極面積(外置電容耦合或電感耦合電極)

180(W) ×210(D) mm

   ◆ 等離子發(fā)生器(韓國(guó)KM)

 頻率13.56MHZ,功率0-300W連續(xù)調(diào)節(jié),自動(dòng)阻抗匹配

  ◆ 控制系統(tǒng)

觸摸屏(7寸)+PLC單步法全自動(dòng)控制,采用歐姆龍、西門(mén)子等世界品牌電器元件,并具有手動(dòng)、自動(dòng)兩種模式

  ◆ 真空系統(tǒng)

德國(guó)萊寶(Leybold)真空泵   D16C (20m3/h)

 SMC截止閥、充氣閥,德國(guó)(Inficon)壓力傳感器

  ◆ 壓力控制

PID閉環(huán)自動(dòng)穩(wěn)壓控制

◆ 氣路系統(tǒng)

2路工藝氣體配置,電子質(zhì)量流量計(jì)、針閥,美國(guó)飛托克(FITOK)氣體管路

 

等離子清洗機(jī),等離子表面處理儀

等離子清洗機(jī),等離子表面處理儀應(yīng)用領(lǐng)域:  1、清洗光學(xué)器件、電子元件、激光器件、鍍膜基片、芯片  2、改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的粘和力  3、去除金屬材料表面的氧化物  4、使玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面活化,增強(qiáng)其表面粘附性、浸潤(rùn)性、相容性  5、高分子材料表面修飾等離子清洗機(jī),等離子表面處理儀簡(jiǎn)介:     等離子清洗機(jī),等離子表面處理儀是一種表面處理設(shè)備, 用氣體作為處理介質(zhì),它是利用能量轉(zhuǎn)換技術(shù)以電能將氣體轉(zhuǎn)換為化學(xué)反應(yīng)性和活性很高的氣體等離子體,等離子體對(duì)固體樣品表面進(jìn)行相互作用,引起分子結(jié)構(gòu)改變,從而對(duì)樣品表面的有機(jī)污染物進(jìn)行超清洗和使樣品表面改性,以獲得希望的表面特性。用氣體作為處理介質(zhì)有效地避免了對(duì)環(huán)境和樣品帶來(lái)的二次污染。等離子清洗機(jī)外接一臺(tái)真空泵,工作時(shí)氣體等離子體輕柔沖刷樣品的表面,短時(shí)間就可以使有機(jī)污染物被徹底地清洗掉,同時(shí)污染物被真空泵抽走,其清洗能力達(dá)到分子級(jí)。等離子清洗機(jī)可對(duì)樣品的表面改性,加強(qiáng)樣品的粘附性、相容性和浸潤(rùn)性,也可對(duì)樣品消毒和殺菌。等離子清洗機(jī),等離子表面處理儀結(jié)構(gòu):  設(shè)備由真空腔體及高頻等離子電源、抽真空系統(tǒng)、充氣系統(tǒng)、自動(dòng)控制系統(tǒng)等部分組成。工作基本原理是在真空狀態(tài)下,等離子作用在控制和定性方法下能夠電離氣體,利用真空泵將工作室進(jìn)行抽真空達(dá)到所需工藝的真空度,再在高頻發(fā)生器的作用下,將氣體進(jìn)行電離,形成等離子體(物質(zhì)第四態(tài))。高頻發(fā)生器提供能量使氣體電離成等離子態(tài)。等離子態(tài)顯著的特點(diǎn)是高均勻性輝光放電,根據(jù)不同氣體發(fā)出從藍(lán)色到深紫色的色彩可見(jiàn)光,材料處理溫度接近室溫。這些高度活躍微粒子和處理的表面發(fā)生作用,得到了表面親水性、拒水性、低摩擦、高度清潔、激活、蝕刻等各種表面改性。  真空腔的設(shè)置具有很強(qiáng)的靈活性,腔內(nèi)有可調(diào)節(jié)層極板插槽,根據(jù)需要每個(gè)插槽內(nèi)的極板都可以設(shè)置為獨(dú)立的陽(yáng)極、陰極。也可以根據(jù)需要來(lái)調(diào)整極板間的距離,來(lái)達(dá)到不同的工藝效果。由于勻氣腔、抽氣口、以及陽(yáng)極、陰極極結(jié)構(gòu)獨(dú)特的氣流設(shè)計(jì)。等離子清洗機(jī),等離子表面處理儀主要技術(shù)指標(biāo):  l、電源:220V 50Hz 1.5KW  2、整機(jī)尺寸:(長(zhǎng)×寬×高) 620×550×1630mm  3、反應(yīng)室尺寸:(長(zhǎng)×寬×高)450×450×300mm  4、射頻電源:13.56MHz;0~500W連續(xù)可調(diào)  5、最大負(fù)荷電流:10ARMS  6、最大負(fù)荷電壓:200VRMS  7、傳輸效率:>90%  8、全自動(dòng)匹配  9、匹配時(shí)間:3~5s  l0、可匹配阻抗實(shí)部范圍:1~500Ω  l1、可匹配阻抗虛部范圍:-j200~+j200  l2、主電容:空氣電容  l3、起輝真空度:約-100KPa左右  l4、冷卻方式:風(fēng)冷  l5、真空腔:鋁腔  l6、電極:陰極、陽(yáng)極。兩極之間最大距離50mm;可調(diào)節(jié)  l7、氣體流量:國(guó)產(chǎn)質(zhì)量流量計(jì),量程為:0-2L/min和0-5L/min  l8、配4升機(jī)械泵  l9、整機(jī)采用松下plc、觸摸屏控制
該公司產(chǎn)品分類(lèi): 恒溫加熱臺(tái) 高低溫測(cè)試機(jī) 高低溫沖擊試驗(yàn)儀 快速退火爐 低溫脆化試驗(yàn)儀 HMDS烤箱 刻蝕機(jī) 潔凈烤箱 無(wú)氧烤箱 無(wú)塵烤箱 無(wú)塵無(wú)氧烤箱 精密氮?dú)夂嫦?/a> 烘箱、烤箱 塑料試驗(yàn)儀器 橡膠試驗(yàn)儀器 烘箱,非標(biāo)烘箱 電子密度計(jì),直讀電子天平 半導(dǎo)體設(shè)備 電線電纜檢測(cè)設(shè)備 橡塑檢測(cè)試驗(yàn)設(shè)備

等離子清洗機(jī)

www.kyxy17.com/北京科譽(yù)興業(yè)科技發(fā)展有限公司 www.kyxy17.com.cn

 郵箱:gaohy8210@163.com.cn

序號(hào)

Item

產(chǎn)品名稱(chēng)Description

型號(hào)

Model

制造商/產(chǎn)地

Manufacturer/Origin

數(shù)量

Qty

單價(jià)RMB

Unit Price

總計(jì)RMB

Total
1

等離子清洗機(jī)

DJY-2A

中國(guó)

1

面議

 

等離子清洗機(jī)技術(shù)規(guī)格

1.個(gè)引進(jìn)了美國(guó)霍尼韋爾真空壓力傳感器使得機(jī)器在智能控制下有了的依據(jù)

*2.采用艙體、管路、閥體全部為不銹鋼材料,稱(chēng)之為全防腐型

*3.該儀器實(shí)現(xiàn)了手動(dòng),自動(dòng)兩種模式任意切換的工作方式

4.該儀器實(shí)現(xiàn)了程序化設(shè)計(jì),預(yù)先編輯好程序,儀器可以自動(dòng)完成實(shí)驗(yàn)

5.無(wú)需任何耗材,使用成本低

6.無(wú)需特殊進(jìn)行維護(hù),在日常使用中保持儀器清潔即可

7.技術(shù)指標(biāo):

艙體尺寸: 270mX100(直徑)mm

射頻頻率: 40KHz

射頻功率: 150W

源: ~220V

流: 1.2A

外形尺寸: 450mmX450mmX200mm

整機(jī)重量: 15Kg

真空泵配置:2XZ—1型真空泵www.kyxy17.com/

配置/Configuration

1.   主機(jī)                  1臺(tái)   

2.   2XZ-1型真空泵        一臺(tái);

3.   20毫米真空抽氣軟管   一根;

4.   艙內(nèi)托盤(pán)             一塊;

5.   主電源線             一根;

6.   備件保險(xiǎn)管            4個(gè);

7.   技術(shù)使用說(shuō)明書(shū)       一本;

8.   合格證               一份;

9.   保修單               一份;

等離子清洗機(jī)是我公主推的主要產(chǎn)品之一,質(zhì)量,價(jià)格,售后無(wú)憂(yōu),

該公司產(chǎn)品分類(lèi): 流式細(xì)胞儀 德國(guó)IMPLEN 羅氏PCR儀 PCR儀 組織培養(yǎng)架 組織培養(yǎng)架 柯尼卡美能達(dá)葉綠素含量測(cè)定儀 葉綠素含量測(cè)定儀 德國(guó)IKA分散機(jī) 分散機(jī) 哈希試劑 哈希試劑 科譽(yù)分光光度計(jì) 分光光度計(jì) 等離子清洗機(jī) 等離子清洗機(jī) 純水機(jī) 純水機(jī) 徠卡顯微鏡 尼康顯微鏡

Orion III美國(guó)Trion公司等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PECVD

  

北京創(chuàng)世杰公司提供美國(guó)Trion公司的Orion III系列等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)系統(tǒng)、Phantom III系列反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)(RIE,DRIE,ICP等)和Apollo型等離子去膠機(jī)。美國(guó)Trion公司為化合物半導(dǎo)體、MEMS(微機(jī)電系統(tǒng))、光電器件以及其他半導(dǎo)體市場(chǎng)提供多種等離子工藝設(shè)備。Trion產(chǎn)品在業(yè)內(nèi)以系統(tǒng)占地面積小,成本合理而著稱(chēng),且設(shè)備及工藝可靠性和穩(wěn)定性久經(jīng)考驗(yàn)。產(chǎn)品線既包含成套的批量生產(chǎn)設(shè)備,也有用于科研開(kāi)發(fā)的系統(tǒng)。

 

Orion III 等離子增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積機(jī)

設(shè)備主要性能指標(biāo):

1. 適于實(shí)驗(yàn)室和小規(guī)模生產(chǎn)線

2. 適合沉積氧化硅、氮化硅、氮氧化硅以及非晶硅等薄膜

3. 可使用的工藝氣體:SiH4(含量<20%)、NH3、TEOS、SiH2Cl2、N2OO2以及N2

4. 基片臺(tái)尺寸為200mm300mm

5. 最大基片尺寸300mm,兼容更小尺寸的基片

6. 標(biāo)配功率300W、頻率350-460kHz的等離子激發(fā)源(底部源)

7. 從反應(yīng)腔室頂蓋處直接裝卸基片

8. 配備工藝壓力下游自動(dòng)控制系統(tǒng)

9. 標(biāo)配4路,最多8路質(zhì)量流量計(jì)控制的工藝氣路,采用超潔凈管路及VCR接頭

10. 基于計(jì)算機(jī)的配方式工藝控制系統(tǒng),彩色觸摸屏操控

11. (可選)增加功率600W、頻率13.56MHz的高密度等離子激發(fā)源(頂部源),優(yōu)化薄膜應(yīng)力控制

12. (可選)基片加熱溫度控制50℃至400

13. (可選)油泵、干泵及分子泵

14.  (可選)Loadlock預(yù)真空鎖腔室

15.  (可選)ICP電感應(yīng)耦合等離子源

同時(shí),本公司還可以提供美國(guó)Trion公司用于批量生產(chǎn)型的Titan型和Oracle III型多腔室型生產(chǎn)型的等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PECVD和反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)RIE(含ICP、HDICP、深硅刻蝕等)。

 聯(lián)系人:張先生 139-  (#qq.com)
該公司產(chǎn)品分類(lèi): 微波等離子CVD 擴(kuò)散爐 離子束刻蝕/沉積系統(tǒng) 多功能薄膜沉積系統(tǒng) 電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī) 表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng) 精密激光加工系統(tǒng) 平行縫焊機(jī) 清洗機(jī) 貼片機(jī) 鍵合機(jī) 真空共晶回流焊爐 超聲波掃描顯微鏡 X光無(wú)損檢測(cè)系統(tǒng) 推拉力測(cè)試機(jī)

GPC-102 A供應(yīng)進(jìn)口臺(tái)式緊湊型等離子清洗機(jī) 小型納米級(jí)等離子蝕刻系統(tǒng)

 

GPC-102 A替代 Harrick PDC-32G-2PDC-FMG-2 PlasmaFlo、EQ-PDC-32G等離子清洗機(jī)是一款臺(tái)式緊湊型等離子清洗機(jī),具有體積僅為臺(tái)式烤箱大小、非破壞性的納米級(jí)清洗的特點(diǎn),是一款特別適合實(shí)驗(yàn)室、超凈間及研發(fā)機(jī)構(gòu)的理想等離子清洗設(shè)備。等離子清洗機(jī)采用工藝氣體如大氣、氬氣、氮?dú)、氧氣或氦氣等作為清洗氣體介質(zhì),有效避免了因液體清洗劑對(duì)被清洗物帶來(lái)的殘留物污染及排放污染。GPC-102 A等離子清洗機(jī)配套一臺(tái)真空泵,工作時(shí)真空清洗艙內(nèi)中的等離子體與被清洗物的表面產(chǎn)生物理及化學(xué)反應(yīng),短暫的清洗就可以使有機(jī)污染物被徹底地清除,同時(shí)污染物被真空泵抽走,其清洗程度達(dá)到納米級(jí)。GPC-102 A等離子清洗機(jī)除了具有納米級(jí)清洗功能外,在特定條件下還可根據(jù)需要改變某些材料表面的性能,等離子體作用于材料表面,使表面分子的化學(xué)鍵發(fā)生重組,形成新的表面特性,而不改變材料的主要性能。對(duì)某些特殊用途的材料,在納米級(jí)清洗過(guò)程中GPC-102 A等離子清洗機(jī)的輝光放電不但加強(qiáng)了這些材料的粘附性、相容性和浸潤(rùn)性,并可消毒和殺菌,而無(wú)需考慮使用化學(xué)試劑如EtOH的排放和回收。
GPC-102 A等離子清洗機(jī)應(yīng)用領(lǐng)域:
Ø 清洗光學(xué)器件、電子元件、半導(dǎo)體元件、激光器件、鍍膜基片、終端安裝等的超清洗。
Ø 清洗電子元件、光學(xué)器件、激光器件、鍍膜基片、芯片、移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)。
Ø 清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。
Ø 移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì),去除金屬材料表面的氧化物。
Ø 清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板、ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石。
Ø 清洗生物芯片、微流控芯片、沉積凝膠的基片。
Ø 高分子材料表面的修飾。
Ø 封裝領(lǐng)域中的清洗和改性,增強(qiáng)其粘附性,適用于直接封裝及粘和。
Ø 改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。
Ø 涂覆鍍膜領(lǐng)域中對(duì)玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面的改性,使其活化,增強(qiáng)表面 粘附性、浸潤(rùn)性、相容性,顯著提高涂覆鍍膜質(zhì)量。
Ø 牙科領(lǐng)域中對(duì)鈦制牙移植物和硅酮壓模材料表面的預(yù)處理,增強(qiáng)其浸潤(rùn)性和相容性。
Ø 醫(yī)用領(lǐng)域中修復(fù)學(xué)上移植物和生物材料表面的預(yù)處理,增強(qiáng)其浸潤(rùn)性、粘附性和相容性。對(duì)醫(yī)療器械的消毒和殺菌。
GPC-102 A等離子清洗機(jī)技術(shù)特征:
Ø 緊湊型臺(tái)式等離子清洗設(shè)備,無(wú)射頻輻射危害,通過(guò)CE/EMC、CE/LVDROHSFCC VOC認(rèn)證。
Ø 射頻(RF)功率無(wú)極調(diào)節(jié),可根據(jù)應(yīng)用需要自由設(shè)置。
Ø 等離子清洗機(jī)整體適配與惰性氣體如大氣、氬氣、氮?dú),活性氣體氧氣、氦氣、氫氣或混合氣體等工藝氣體使用。
Ø 適用于超凈間,無(wú)需配備其它附件即可使用。
Ø 全套工藝氣體管路采用特氟龍(teflon)材質(zhì)及美國(guó)Swagelok高質(zhì)316不銹鋼閥門(mén)。
GPC-102 A等離子清洗機(jī)具有如下優(yōu)勢(shì):
Ø 具有性能穩(wěn)定、性?xún)r(jià)比高、操作簡(jiǎn)便、使用成本極低、易于維護(hù)的特點(diǎn)。
Ø 可對(duì)各種幾何形狀、表面粗糙程度各異的金屬、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面進(jìn)行超清洗和改性。
Ø 完全徹底地清除樣品表面的有機(jī)污染物。
Ø 無(wú)極功率處理、快速方便、清洗效率高。
Ø 綠色環(huán)保、不使用化學(xué)溶劑、對(duì)樣品和環(huán)境無(wú)二次污染。
Ø 在常溫條件下進(jìn)行超清洗,對(duì)溫敏感樣品非破壞性處理。
GPC-102 A(替代 Harrick PDC-32G-2、EQ-PDC-32G等離子清洗機(jī))等離子清洗機(jī)規(guī)格:
等離子清洗機(jī)真空反應(yīng)艙尺寸:內(nèi)徑4.0英寸(102毫米) 7.9英寸(200毫米)
等離子清洗機(jī)真空反應(yīng)艙材質(zhì):純石英99.99%二氧化硅)
等離子清洗機(jī)輸入功率:150W(最大)
等離子清洗機(jī)工作頻率13.56MHz
等離子清洗機(jī)射頻功率:0W~30W 功率旋鈕連續(xù)調(diào)節(jié)
等離子清洗機(jī)重量:12公斤(約)
等離子清洗機(jī)尺寸:12.3英寸(312毫米)x 16.8英寸(426毫米)寬 x 12.4英寸(315毫米)深
等離子清洗機(jī)配套托盤(pán):純石英材質(zhì)規(guī)格
 
高配機(jī)型GPC-102 (替代 Harrick PDC-32G-2PDC-FMG-2 PlasmaFlo、EQ-PDC-32G等離子清洗機(jī))等離子清洗機(jī)規(guī)格:
等離子清洗機(jī)真空反應(yīng)艙尺寸:內(nèi)徑4.0英寸(102毫米),7.9英寸(200毫米)
等離子清洗機(jī)真空反應(yīng)艙材質(zhì):純石英99.99%二氧化硅)
等離子清洗機(jī)輸入功率:150W(最大)
等離子清洗機(jī)工作頻率:13.56MHz
等離子清洗機(jī)射頻功率:0W~30W 功率旋鈕連續(xù)調(diào)節(jié)
等離子清洗機(jī)重量:16公斤(約)
等離子清洗機(jī)尺寸:12.3英寸(312毫米)x 30英寸(762毫米)寬x 12.4英寸(315毫米)深
等離子清洗機(jī)真空計(jì):熱偶式、數(shù)碼顯示、實(shí)時(shí)監(jiān)控真空反應(yīng)艙內(nèi)壓力。
等離子清洗機(jī)流量氣體混合計(jì):配備氣體流量控制系統(tǒng),可以精密控制工藝氣體喂入及混合。
等離子清洗機(jī)配套托盤(pán):純石英材質(zhì)規(guī)格
 

如果您對(duì)GPC-102(替代 Harrick PDC-32G-2PDC-FMG-2 PlasmaFlo、EQ-PDC-32G等離子清洗機(jī)系列等離子清洗機(jī)系統(tǒng)感興趣,請(qǐng)聯(lián)系我們索取更詳盡資料!

該公司產(chǎn)品分類(lèi): GIK

DIENER 等離子清洗機(jī)等離子清洗機(jī)

 Femto PCCE 創(chuàng)新觸摸屏適用制程研發(fā), 清潔, 活化, 蝕刻

外型尺寸:W 562 mm, H 211 mm, D 420 mm

反應(yīng)室尺寸: Ø 100 mm, L 280 mm

氣體供應(yīng): 流量控制型 ; 雙氣體通道

射頻發(fā)生器: 40kHz/100 W, 可調(diào)變輸出功率

真空泵: Leybold, Type S1.5 (1.5m3/h)

控制方式: 電腦控制 

 

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該公司產(chǎn)品分類(lèi): 等離子清洗機(jī)

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