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CD1000等離子清洗機(jī)－－Europlasma nv

CD1000型等離子表面處理機(jī)是用于較大尺寸消費(fèi)類電子產(chǎn)品的表面處理和改性的專業(yè)設(shè)備？筛鶕(jù)客戶需要選擇上料裝置。

反應(yīng)艙（大型）：

艙體尺寸：1000×700×700 mm

材料：鋁 壁厚：

3cm

容積：

490 升 艙門(mén)：裝有可視窗口

架子: 7個(gè) （尺寸可耕具客戶要求訂制）

 

主要應(yīng)用于以下領(lǐng)域：

金屬：等離子處理是一種環(huán)境友好型處理模式，代替了傳統(tǒng)的三氯化物化學(xué)處理方式。汽車(chē)制造：用于汽車(chē)制造過(guò)程中的塑料和噴漆前處理。紡織品生產(chǎn)：用于紡織品、濾網(wǎng)和薄膜的親水性、疏水性和表面改性處理。醫(yī)療：用于玻璃導(dǎo)管、注射器和各種閥門(mén)的膠合前處理。航空航天：絕緣材料（泡沫）、電子

該公司產(chǎn)品分類： 水質(zhì)分析儀/多參數(shù)水質(zhì)分析儀 其它基礎(chǔ)儀表 其它測(cè)量/計(jì)量?jī)x器 生物顯微鏡 激光拉曼光譜(RAMAN) 表面阻抗 蠕動(dòng)泵 電化學(xué)工作站、恒電位儀 液體處理工作站(移液工作站) 在線測(cè)厚儀 生物芯片、芯片掃描儀、芯片點(diǎn)樣儀、芯片檢測(cè)儀 微波、電、磁學(xué)量的測(cè)量?jī)x表 微流控芯片 等離子體表面處理儀 橢偏儀 鎖相放大器 其它動(dòng)物實(shí)驗(yàn)儀器 白光干涉測(cè)厚儀 掃描探針顯微鏡SPM（原子力顯微鏡AFM、掃描隧道顯微鏡STM） 紫外、紫外分光光度計(jì)、紫外可見(jiàn)分光光度計(jì)、UV

NT-1/-2 臺(tái)式/立式等離子清洗機(jī)

NT-1/-2 臺(tái)式/立式等離子清洗機(jī)

應(yīng)用: 半導(dǎo)體IC; SMT; LCD等制造過(guò)程中表面清潔和表面改善功能.去除外表面殘留的光刻膠, 有機(jī)污染物, 溢出的環(huán)氧樹(shù)脂等; 還可以對(duì)表面的性能進(jìn)行活化, 增加表面的焊接及封裝能力…. 它可以用于生產(chǎn)制造過(guò)程中, 也可以用于FA或QA實(shí)驗(yàn)室中.   主要特征： 1  獨(dú)特的腔體設(shè)計(jì)； 2  提供最佳的潔凈空間和均勻的等離子分布； 3  使用友好的控制操作界面； 4  可進(jìn)行菜單式操作和控制； 5  全部參數(shù)都時(shí)實(shí)地顯示在設(shè)備的屏目上：可隨時(shí)根據(jù)系統(tǒng)狀況，進(jìn)行系統(tǒng)診斷和操作   NT-1 參數(shù): 尺寸（英尺）: 26L X 14W X14H 重量: 120LBS 設(shè)備腔體內(nèi)部尺寸: 9W X 9H X 12L （UPTO 4 SHELVES） 發(fā)動(dòng)機(jī): 300 or 600 Watt 泵: 3.2CFM 11CFM 操作控制: 單機(jī)板控制, 無(wú)限量數(shù)據(jù)存儲(chǔ); TFT 顯示操作系統(tǒng), 更方便的與外接, 結(jié)果方便輸出/存儲(chǔ)及處理.

NT-2 參數(shù): 尺寸（英尺）: 28L X 26W X26H 重量: 140LBS 設(shè)備腔體內(nèi)部尺寸:12W X 12H X 20L （UPTO 8 SHELVES） 發(fā)動(dòng)機(jī): 600 or 100 or 1500 Watt @13.50 MHZ or 40KHZ 泵: 27 or 50 or 90 CFM 操作控制: 單機(jī)板控制, 無(wú)限量數(shù)據(jù)存儲(chǔ); TFT顯示操作系統(tǒng), 更方便的與外接, 結(jié)果方便輸出/存儲(chǔ)及處理.

 

目前，我司已與一些著名的生產(chǎn)和研究單位建立了良好的業(yè)務(wù)關(guān)系；同時(shí)，也已與歐、美等地區(qū)的半導(dǎo)體生產(chǎn)廠商及有關(guān)機(jī)構(gòu)也建立起了良好的合作伙伴關(guān)系。

聯(lián)系人: 馮先生手機(jī):139-1145-7960Email:bf711@befirst-tech.comWebSite:www.befirst-tech.com

如果有任何關(guān)于設(shè)備或者技術(shù)的疑問(wèn)歡迎電話或Email給我，合作愉快！

該公司產(chǎn)品分類： RKD 酸開(kāi)封機(jī) RKD 激光開(kāi)封機(jī) DAGE4000產(chǎn)品配件 易消耗品 BFL金屬和陶瓷封裝產(chǎn)品開(kāi)封機(jī) TPT半自動(dòng)焊線機(jī)和貼片機(jī) FAI 紅外熱像儀 DAGE X光檢查機(jī)（Dage X-ray） Dage4000推拉力測(cè)試機(jī)

等離子清洗機(jī)(低溫等離子表面改性設(shè)備)

等離子清洗機(jī),又名低溫等離子表面改性設(shè)備,輝光放電電暈處理機(jī),廣泛應(yīng)用于等離子清洗、刻蝕、等離子鍍、等離子涂覆、等離子灰化和表面改性等場(chǎng)合。通過(guò)其處理，能夠改善材料的潤(rùn)濕能力，使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、鍍等操作，增強(qiáng)粘合力、鍵合力，同時(shí)去除有機(jī)污染物、油污或油脂。  汽車(chē)燈座和燈罩膠結(jié)前的處理pp化妝品包裝盒的印前處理聚氨酯橡膠印前處理玻璃瓶（丙稀酸樹(shù)脂）噴涂作色前的等離子處理各種箱包的印前或膠結(jié)前的表面處理 （尼龍）保玲球表面噴涂或印刷前的表面處理復(fù)合樹(shù)脂鏡片的膠結(jié)面處理隱形眼鏡的表面親水處理各種樹(shù)脂、塑料、橡膠、玻璃等板材的表面處理各種塑料（密胺）餐具印刷前的表面處理 酶標(biāo)板、細(xì)菌計(jì)數(shù)培養(yǎng)皿、細(xì)胞培養(yǎng)皿、組織培養(yǎng)皿的親水處理。經(jīng)過(guò)等離子體處理后細(xì)菌培養(yǎng)皿表面由疏水變?yōu)橛H水,并獲得支持細(xì)胞黏附鋪展的能力.并適用于細(xì)胞培養(yǎng)。等離子表面處理的效果可以簡(jiǎn)單地用滴水來(lái)驗(yàn)證，處理過(guò)的樣品表面被水潤(rùn)濕。
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QT-80-PSP等離子清洗機(jī)

 

主要應(yīng)用于LCD、LED、連接器、鍵合前等大規(guī)模生產(chǎn)領(lǐng)域。
2.所有元器件及核心部件采用進(jìn)口，了整機(jī)的穩(wěn)定性和使用壽命。
                3.真空泵采用進(jìn)口旋片泵，是適用于等離子工藝環(huán)境使用的可長(zhǎng)時(shí)間工作的體系，
                  在抗氧化、耐腐等諸多方面積累了豐富的經(jīng)驗(yàn)，使泵的壽命大大提高，并降
                  低了泵的維護(hù)成本，泵的各項(xiàng)保護(hù)措施完善，提高了長(zhǎng)時(shí)間工作極限，泵油為耐
                  高溫、抗氧化油，泵具有可自行緩解溫度過(guò)高的散熱體系，無(wú)需水冷。泵體內(nèi)置
                  于機(jī)柜內(nèi)部，使機(jī)器緊湊，占地面積小。
                4.自動(dòng)控制系統(tǒng)采用PLC加觸摸屏控制，所有工藝參數(shù)、工藝過(guò)程實(shí)時(shí)監(jiān)控，并顯
                  示運(yùn)行狀態(tài)、報(bào)警記錄和工藝曲線記錄、工作時(shí)間紀(jì)錄，適合維護(hù)，可以提供工
                  藝參考。
                5.可存儲(chǔ)50組工藝配方，隨意調(diào)用。
                6.清洗時(shí)間、潔凈壓力、射頻功率、工藝氣體流量、設(shè)定可調(diào)。
                7.工藝參數(shù)受密碼保護(hù)，分級(jí)密碼管理查詢。
                8.一鍵完成全自動(dòng)工藝，實(shí)時(shí)故障報(bào)警、非法操作提示、清洗結(jié)束提示等。
                9.自動(dòng)提醒系統(tǒng)維護(hù)、更換真空泵油等，避免機(jī)器過(guò)載、過(guò)老化情形下工作，延
                  長(zhǎng)使用壽命。
                10.氣體質(zhì)量流量計(jì)采用美國(guó)進(jìn)口，由模擬量輸入輸出，量程為0～200sccm可在量
                  程范圍內(nèi)無(wú)級(jí)調(diào)節(jié)，根據(jù)特殊的工藝要求可用PLC對(duì)質(zhì)量流量計(jì)進(jìn)行PID調(diào)節(jié)而實(shí)
                  現(xiàn)真空度的控制。
                11.根據(jù)特殊的工藝要求可使用干泵，尾氣處理設(shè)備，油過(guò)濾器，過(guò)濾返油裝置等,
                   電極結(jié)構(gòu)（專利申請(qǐng)中）的高等離子通量設(shè)計(jì)能很好地提高等離子體的均勻性
                   及穩(wěn)定性。
 
中型等離子處理機(jī)主要技術(shù)數(shù)據(jù)及規(guī)格
 
       標(biāo)準(zhǔn)型號(hào)
 
技術(shù)配置
 QT-48-PSP
 QT-80-PSP
 QT-120-PSP
 
外形尺寸（WHD）
 900mm×1500mm×1000mm
 900mm×1500mm×1000mm
 900mm×1600mm×1000mm
 
反應(yīng)倉(cāng)尺寸
 W400mm×H300mm×D400mm
 W450mm×H400mm×D450mm
 W450mm×H600mm×D450mm
 
真空腔體材質(zhì)
 不銹鋼加鋁內(nèi)襯
 
電極板面積
 320mm×280mm×4
 360mm×340mm×5
 360mm×340mm×6
 
等離子電源
 美國(guó)進(jìn)口
 美國(guó)進(jìn)口
 美國(guó)進(jìn)口
 
電源功率
 0～600W
 0～600W
 0～1000W
 
電源頻率
 13.56MHz
 13.56MHz
 13.56MHz/40kHz
 
極限真空度
 2 Pa
 2 Pa
 3Pa
 
PLC控制系統(tǒng)
 西門(mén)子PLC 模擬量控制實(shí)現(xiàn)所有信號(hào)數(shù)據(jù)集成
 
人機(jī)界面
 5.7英寸觸摸屏
 7.1英寸觸摸屏
 10.4英寸觸摸屏
 
MFC
 美國(guó)進(jìn)口質(zhì)量流量計(jì)（MFC）控制精度達(dá)1sccm
 
工藝氣體流量
 0～100sccm
 0～200sccm
 0～200sccm
 
電磁閥
 日本進(jìn)口、超長(zhǎng)時(shí)間低溫工作
 
工作壓強(qiáng)
 10-130Pa
 
不銹鋼氣體管路
 內(nèi)外高精度拋光，氣阻小，流量可高達(dá)100L/min。
 
單次處理時(shí)間
 10-15分鐘
 
真空泵系統(tǒng)
 德國(guó)
 德國(guó)
 德國(guó)/日本
 
參數(shù)功能
 配方控制，處理時(shí)間、射頻功率、氣體流量設(shè)定可調(diào)
 
所需環(huán)境配置
 
電：AC380V/50Hz 3P，5W RE
 15 A
 20 A
 25 A
 
供氣管路
 0.2至0.6MPa，管徑φ6
 
環(huán)境
 28℃良好換氣通風(fēng)
 
濕度
 30%～85%
 
選配功能
 
腔體及電極
 可據(jù)客戶要求設(shè)計(jì)
 
電源功率
 500-2000w之間選配
 
質(zhì)量流量計(jì)
 流量量程及路數(shù)可增減
 
干泵
 可據(jù)客戶要求配置
 
尾氣處理器
 可選配
 
過(guò)濾返油裝置
 可選配
 
油泵低液位報(bào)警
 可選配

GV10x電鏡等離子清洗器，透射電鏡，掃描電鏡（TEM/STM）專用等離子清洗機(jī)

 GV10x電鏡等離子清洗器

   GV10x 是由ibss Group和一個(gè)擁有專利的等離子源的發(fā)明者共同合作開(kāi)發(fā)并生產(chǎn)的新一代專門(mén)清洗腔體的等離子清洗系統(tǒng)。GV10x可以在分子泵工作的真空壓力狀態(tài)下運(yùn)行，它比以往傳統(tǒng)方法更加有效的（10到20倍）去除碳和碳?xì)湮廴。它能夠去除掃描電子顯微鏡(SEM)圖像中的假象; 使電子顯微鏡長(zhǎng)久的保持高分辨率和束流穩(wěn)定性。不但能夠消除掃描電子顯微鏡圖像中的黑色掃描方框，針對(duì)聚焦離子束(FIB)和透射電子顯微鏡(TEM)中的碳污染同樣能得到很好的控制效果。

        

              GV10x (KF40 version)                            

       GV10x等離子清洗器是應(yīng)用于真空腔體中的原位清洗機(jī)的一個(gè)全新典范。憑借精妙的順流工藝，GV10x等離子清洗器比第一代方法更加有效和均勻10到20倍地去除碳和碳?xì)湮廴。分子泵也可以安全地運(yùn)行，而不需要中斷SEM, FIB或TEM系統(tǒng)的軟件控制。

      通常GV10x等離子體清洗器使用空氣或氧氣產(chǎn)生氧的自由基來(lái)去除碳?xì)湮廴尽４送猓?/span>NIST （美國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)研究所）研究表明，在GV10x等離子體清洗器中運(yùn)用氫氣去除沉積在多層鏡面和其它襯底以及氧化敏感的樣品上的碳沉積方面是安全和有效的。
     GV10x等離子體清洗器可以很容易地在幾個(gè)不同的實(shí)驗(yàn)室儀器中搬遷。每個(gè)腔的清潔周期不同。與普通的等離子清洗機(jī)不同的是: 等離子體清洗工藝(經(jīng)常被稱為遠(yuǎn)程等離子處理)并不會(huì)產(chǎn)生動(dòng)力沖擊、濺射損傷或者對(duì)樣品加熱。
     GV10x等離子體清洗器能迅速地清潔掃描電子顯微鏡腔內(nèi)的樣品，允許快速的假象清除，通常僅需幾分鐘的時(shí)間，而不需給電鏡腔體放氣。
     ibss Group的Gentle Asher和GV10x及泵的組合拓展了等離子體清洗技術(shù)的應(yīng)用，即將樣品和TEM樣品支撐桿在插入到電鏡前進(jìn)行預(yù)清洗，從而延長(zhǎng)了電鏡清洗的周期。
      GV10x等離子體清洗器是一個(gè)全新的清潔腔體的典型技術(shù)。這個(gè)工藝具有更大的清潔均勻性，可以更加迅速地清除位于真空腔遠(yuǎn)角落表面上的碳污染。這些污染能不斷的吸附和重新污染腔體其它部分。由于較大的功率和壓力選擇范圍，GV10x等離子體清洗器可以被運(yùn)用到除了SEM腔體之外的清洗，比如清洗同步輻射和紫外光學(xué)，臨界尺寸掃描電鏡 (CDSEMs)， 檢測(cè)性掃描電鏡和X-射線光電子能譜系統(tǒng)，這些系統(tǒng)的大型腔體都需要均勻和快速的清潔。
 
 
 
GV10x等離子清洗器參數(shù)：
功率： 5 ~99 W 連續(xù)可調(diào)等離子功率
    
             壓力： - 2 Torr  ~  <5 mTorr (measured at the Source)
    • 壓力（大于50 毫托），清洗氣體的平均自由程很短，在靠近等離子源的區(qū)域去除污染。
    • 壓力（小于50 毫托），清洗氣體的平均自由程比較長(zhǎng)，能均勻的碳污染的清除。同時(shí)，清洗發(fā)生在分子泵能安全運(yùn)行的壓力下。

            柔和： 使用中性氧或氫的自由基通過(guò)非動(dòng)力學(xué)過(guò)程，灰化氣相的碳?xì)浠衔锖捅砻嫣肌?/span>

 

Gentle Asher™, GA/GV

      ibss group引進(jìn)電鏡樣品預(yù)處理腔，拓展了GV10x的應(yīng)用，用以清潔送入電子顯微鏡腔前的樣品。連接了GV10x 的預(yù)處理腔體, GA/GV, 可以極大地防止黑色掃描方框的生成。

       在將電鏡腔清潔到可接受的碳?xì)湮廴舅胶，可以使用等離子體工藝，通過(guò)簡(jiǎn)單地將GV10x源移動(dòng)到預(yù)處理腔的腔體中，達(dá)到樣品清潔和儲(chǔ)存的目的？蛻舻膱(bào)告聲稱這種有效的結(jié)合以更少的損傷巧妙地去除TEM樣品臺(tái)和任何類型樣品的污染，同時(shí)保持CDSEM、 SEM、FIB 和TEM中碳?xì)湮廴舅降囊卓刂菩。預(yù)清潔樣品和樣品臺(tái)避免了污染電鏡腔體，這樣就延長(zhǎng)了電鏡清洗的周期。

該公司產(chǎn)品分類： 玻璃碳產(chǎn)品 大氣等離子清洗機(jī) 電磁系統(tǒng) 定制坩堝 耗材配件 納米壓痕儀（劃痕儀） 臺(tái)階儀/輪廓儀 表面等離子共振儀SPR 電鏡腔體等離子清洗系統(tǒng) 真空等離子表面處理系統(tǒng) TEM硅框架 TEM無(wú)膜硅窗口 TEM純硅薄膜窗口 TEM氧化硅窗口 TEM親水性/疏水性氮化硅薄膜窗口 TEM多孔氮化硅薄膜窗口 TEM氮化硅薄膜窗口 X射線用氧化硅薄膜窗口 X射線用氮化硅薄膜窗口 X射線用薄膜窗口

PDC200福建雅馬拓等離子清洗機(jī)，廈門(mén)進(jìn)口等離子清洗機(jī)廠家，等離子清洗機(jī)原理

 主要特點(diǎn)：

1、RIE模式標(biāo)配（DP切換為選購(gòu)）；2、等離子的均應(yīng)性高操作簡(jiǎn)單的液晶觸摸屏控制面；用途：1、CSB/BGA/COB基板的等離子處理；2、有機(jī)膜和金屬氧化膜的除去；3、電路基板的干洗；4、活性處理。

 
技術(shù)參數(shù)：

 

型號(hào)
PDC200
PDC210
PDC510
模式
RIE模式（DP選配）
DP模式
DP/RIE切換方式
電極構(gòu)造
平行平板電極（固定）
高頻輸出功率
MAX300W
                   Max 500W
頻率
13.56MHz
控制方式
自動(dòng)聯(lián)動(dòng)，液晶觸摸屏控制
反應(yīng)室尺寸
400×250×150mm
500×300×200
電極尺寸
250×170mm
400×200mm
反應(yīng)室材質(zhì)
                                        一次性一體成型鋁腔（防腐蝕，可對(duì)應(yīng)CF4）
反應(yīng)氣體
2系統(tǒng)（Ar/O2）
填充氣體
N2/潔凈干燥空氣
反應(yīng)氣體流量控制
流量計(jì)
聚合控制器
真空泵
另行選配
油回旋真空泵（排氣量345L/min）
油回旋真空泵（排氣量500L/min）
氣體導(dǎo)入口
反應(yīng)氣體2套，填充氣體1套
外型尺寸
540×600×600mm
540×600×600mm
700×700×700mm
電源
單相AC100V 15A 50/60Hz
                                         三相AC100V 15A 50/60Hz
該公司產(chǎn)品分類： 儀器耗材 行業(yè)專用儀器 潔凈室專用檢測(cè)儀器 薄層色譜 制備液相 離子色譜 液相色譜 氣相色譜 紫外|可見(jiàn)分光光度計(jì) 紅外光譜 原子熒光光譜 原子吸收光譜 光譜類儀器 色譜類儀器 環(huán)保監(jiān)測(cè) 潔凈廠房工程 實(shí)驗(yàn)室氣路|通風(fēng)工程 實(shí)驗(yàn)室家具工程 實(shí)驗(yàn)室系統(tǒng)工程 色度|濁度|阿貝折射儀

CY-P2L-A成越2L小型臺(tái)式等離子清洗機(jī)

 該 小型臺(tái)式等離子清洗機(jī)由等離子電源、真空系統(tǒng)、供氣氣系統(tǒng)、自動(dòng)控制系統(tǒng)五部分組成。其工作原理是為：在真空狀態(tài)下，等離子作用在控制和定性方法下能夠電 離氣體,利用真空泵將工作室進(jìn)行抽真空達(dá)到30-40pa 的真空度，再在高頻發(fā)生器作用下，將氣體進(jìn)行電離，形成等離子體（物質(zhì)第四態(tài)），其顯著的特點(diǎn) 是高均勻性輝光放電，根據(jù)不同氣體發(fā)出從藍(lán)色到深紫色的彩色可見(jiàn)光，材料處理溫度接近室溫。這些高度活躍微粒子和處理的表面發(fā)生作用，得到了表面親水性、 拒水性、低摩擦、高度清潔、激活、蝕刻等各種表面改性。
等離子處理優(yōu)點(diǎn)：1.環(huán)保技術(shù)：等離子體作用過(guò)程是氣- 固相干式反應(yīng) ,不消耗水資源、無(wú)需添加化學(xué)藥劑,對(duì)環(huán)境無(wú)污染。2.廣適性：不分處理對(duì)象的基材類型,均可進(jìn)行處理,如金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料都能很好地處理；3.溫度低：接近常溫，特別適于高分子材料，比電暈和火焰方法有較長(zhǎng)保存時(shí)間和較高表面張力。4.功能強(qiáng)：僅涉及高分子材料淺表面（10 -1000A ），可在保持材料自身特性的同時(shí)，賦予其一種或多種新的功能；5.低成本：裝置簡(jiǎn)單，易操作維修，可連續(xù)運(yùn)行，往往幾瓶氣體就可以代替數(shù)千公斤清洗液,因此清洗成本會(huì)大大低于濕法清洗。 6. 全過(guò)程可控工藝：所有參數(shù)可由電腦設(shè)置和數(shù)據(jù)記錄，進(jìn)行工藝質(zhì)量控制。7. 處理物幾何形狀無(wú)限制：大或小，簡(jiǎn)單或復(fù)雜，部件或紡織品，均可處理。小型臺(tái)式等離子清洗機(jī)主要技術(shù)參數(shù): 
*產(chǎn)品型號(hào) CY-P2L-A
*供電電源： AC220V
*工作電流： 整機(jī)工作電流不大于1.2A(不含真空泵)
*射頻電源功率： 200W
*射頻頻率： 40KHZ（偏移量小于0.2KHz）
*頻率偏移量： 小于0.2KHz
*特性阻抗： 50歐姆，自動(dòng)匹配
*真空度： 30Pa—100Pa
*氣體流量： 10—100ml/min(可調(diào))
*過(guò)程控制： MCU自動(dòng)與手動(dòng)方式
 
清洗時(shí)間： 1-6000秒鐘可調(diào)
功率大小 10%-100%可調(diào)
內(nèi)腔尺寸 100mm×270mm
*外形尺寸： 440*390*200mm
*重量： 25Kg
*真空泵： 100Pa
*真空室溫度： 小于65°C
*冷卻方式： 強(qiáng)制風(fēng)冷
  
該公司產(chǎn)品分類： 高溫電爐 CY/成越

PDC-MG等離子清洗機(jī)

 產(chǎn)品介紹： 

       PDC-MG 等離子清洗機(jī)配備有各種數(shù)字式儀表，能更加精確的記錄各個(gè)實(shí)驗(yàn)參數(shù)。該款設(shè)備操作更為簡(jiǎn)便，只需要一個(gè)開(kāi)關(guān)鍵即可對(duì)整個(gè)清洗過(guò)程進(jìn)行控制。該型號(hào)等離子清洗機(jī)具備更為高的射頻功率，使得等離子清洗的應(yīng)用面更為寬廣，除普通的清洗功能外，還具備表面改性、鍵和、淺刻蝕等功能。通過(guò)國(guó)家輻射環(huán)境管理監(jiān)測(cè)站檢驗(yàn)，符合國(guó)家相關(guān)產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)要求。

 

技術(shù)參數(shù)：

整機(jī)規(guī)格 500×300×300（長(zhǎng)×寬×高）mm
整機(jī)重量 35 Kg
清洗艙規(guī)格 Φ165×L210 mm (耐熱玻璃)
清洗艙有效容積 4.5 L
輸入電源 220 V／50 Hz
整機(jī)輸入功率 400 W
射頻輸出 0～150 W（連續(xù)可調(diào)）
射頻頻率 13.56 MHz
數(shù)字式定時(shí)器范圍 0～99.99 min
極限真空度 1.3×102 Pa
數(shù)字式真空計(jì)及量程 1.0×102～9.9×105 Pa
數(shù)字式電流表和數(shù)字式電壓表        方便判斷設(shè)備工作中的功率大小
氣體流量計(jì)及量程 0.2～1.5 L／min 浮子流量計(jì)二支，方便二種不同氣體按比例混合            
配件 VRD-8 型單相真空泵、耐熱玻璃托盤(pán)一個(gè)

 

 

PDC-MG 型等離子清洗機(jī)配套的VRD-8 型單相真空泵圖片：

微流控芯片|微流控芯片批量加工

                                                                        （全部圖片以實(shí)物為準(zhǔn)）

 

VRD-8 真空泵技術(shù)參數(shù)：

產(chǎn)地 中國(guó)·浙江
抽氣速度 2.2 L/S
極限真空 5x10-2
水蒸汽容量 360g/h
噪音 56A
工作環(huán)境溫度              10-40℃
電機(jī)相數(shù) 單相
電機(jī)電壓 220V
電機(jī)功率 0.37KW
電機(jī)轉(zhuǎn)速 1440 r/min
重量 16.2kg
用油量 0.5L
真空系統(tǒng)配件 管卡3 個(gè)、真空橡皮軟管（直徑12 mm、長(zhǎng)度2 m） 1 根、硅橡膠管（直徑6 mm、長(zhǎng)度2 m） 1 根、真空泵進(jìn)氣口轉(zhuǎn)接頭1 個(gè)、生料帶1 卷、改刀1 把、尼龍?jiān)? 個(gè)

該真空泵為出口型真空泵，其性能遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于其它國(guó)產(chǎn)真空泵。

該公司產(chǎn)品分類： 微反應(yīng)器及系統(tǒng) 配件耗材 儀器設(shè)備 微流控芯片

Yamato 等離子清洗機(jī)

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PT-2S生物納米材料等離子清洗機(jī) 大學(xué)實(shí)驗(yàn)室等離子清洗機(jī)

 PT-2S真空等離子清洗機(jī)，它是利用能量轉(zhuǎn)換技術(shù)，在一定真空負(fù)壓的狀態(tài)下，以電能將氣體轉(zhuǎn)化為活性極高的氣體等離子體，氣體等離子體能輕柔沖刷固體樣品表面，引起分子結(jié)構(gòu)的改變，從而達(dá)到對(duì)樣品表面有機(jī)污染物進(jìn)行超清洗，在極短時(shí)間內(nèi)有機(jī)污染物就被外接真空泵徹底抽走，其清洗能力可以達(dá)到分子級(jí)。在一定條件下還能使樣品表面特性發(fā)生改變。因采用氣體作為清洗處理的介質(zhì)，所以能有效避免樣品的再次污染。等離子清洗機(jī)既能加強(qiáng)樣品的粘附性、相容性和浸潤(rùn)性，也能對(duì)樣品進(jìn)行消毒和殺菌。等離子清洗機(jī)現(xiàn)已廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、高分子、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。
    國(guó)產(chǎn)等離子清洗機(jī)是在國(guó)外等離子清洗機(jī)價(jià)格貴，難以推廣等缺點(diǎn)的基礎(chǔ)上，吸取了現(xiàn)有國(guó)內(nèi)外等離子清洗機(jī)的優(yōu)點(diǎn)，結(jié)合國(guó)內(nèi)用戶的使用需求，采用先進(jìn)科技手段開(kāi)發(fā)出的新型系列等離子清洗機(jī)。該產(chǎn)品除擁有其它等離子清洗器的優(yōu)點(diǎn)外，更具有性能穩(wěn)定、性價(jià)比高、清洗效率高、操作簡(jiǎn)便、使用成本極低、易于維護(hù)的優(yōu)點(diǎn)。產(chǎn)品能適應(yīng)不同用戶對(duì)設(shè)備的特殊要求。清洗艙的材料有耐熱玻璃和不銹鋼可選擇，不銹鋼類清洗艙有圓形和方形可選擇。。
功能：
對(duì)金屬、玻璃、硅片、陶瓷、塑料、聚合物表面的有機(jī)污染物 （如石蠟、油污、脫膜劑、蛋白等）進(jìn)行超清洗。
改變某些材料表面的性能。
使玻璃、塑料、陶瓷等材料表面活化，加強(qiáng)這些材料的粘附性、相容性和浸潤(rùn)性。
清除金屬材料表面的氧化層。
對(duì)被清洗物進(jìn)行消毒、殺菌。
優(yōu)點(diǎn)
具有性能穩(wěn)定、性價(jià)比高、操作簡(jiǎn)便、使用成本極低、易于維護(hù)的特點(diǎn)。 
對(duì)各種幾何形狀、表面粗糙程度各異的金屬、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面進(jìn)行超清洗和改性。 
完全徹底地清除樣品表面的有機(jī)污染物。
定時(shí)處理、快速處理、清洗效率高。                             
綠色環(huán)保、不使用化學(xué)溶劑、對(duì)樣品和環(huán)境無(wú)二次污染。
在常溫條件下進(jìn)行超清洗，對(duì)樣品非破壞性處理。
應(yīng)用領(lǐng)域
光學(xué)器件、電子元件、半導(dǎo)體元件、激光器件、鍍膜基片、終端安裝等的超清洗。
清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。
移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)，去除金屬材料表面的氧化物。
清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板、ATR元件、人工晶體、天然晶體和寶石。
清洗生物芯片、微流控芯片、沉積凝膠的基片。
高分子材料表面的修飾。
封裝領(lǐng)域中的清洗和改性，增強(qiáng)其粘附性，適用于直接封裝及粘和。
改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。
涂覆鍍膜領(lǐng)域中對(duì)玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面的改性，使其活化，增強(qiáng)表面粘附性、浸潤(rùn)性、相容性，顯著提高涂覆鍍膜質(zhì)量。
牙科領(lǐng)域中對(duì)鈦制牙移植物和硅酮壓模材料表面的預(yù)處理，增強(qiáng)其浸潤(rùn)性和相容性。
醫(yī)用領(lǐng)域中修復(fù)學(xué)上移植物和生物材料表面的預(yù)處理，增強(qiáng)其浸潤(rùn)性、粘附性和相容性。對(duì)醫(yī)療器械的消毒和殺菌。
等離子清洗機(jī)型號(hào)
•         PT-2S型是單路氣體輸入，不銹鋼艙體：Φ100mm×270mm
• 容量：2升
*供電電源： AC220V
*工作電流： 整機(jī)工作電流不大于1.2A(不含真空泵)
*射頻電源功率： 200W
*射頻頻率： 40KHZ（偏移量小于0.2KHz）
*頻率偏移量： 小于0.2KHz
*特性阻抗： 50歐姆，自動(dòng)匹配
*真空度： 10Pa—1000Pa
*氣體流量： 60—600ml/min(可調(diào))
*過(guò)程控制： MCU自動(dòng)與手動(dòng)方式
清洗時(shí)間： 1-100分鐘可調(diào)
功率大小 10%-100%可調(diào)
  
*外形尺寸： PT-2S型_400x450x250
*重量：  36.5Kg
*真空泵： 
  
*真空室溫度： 小于65°C
*冷卻方式： 強(qiáng)制風(fēng)冷
 
 
             深圳三和波達(dá)機(jī)電科技有限公司
                   -專攻研究院大學(xué)工廠等離子清洗裝置
             地址：深圳龍華大浪石觀工業(yè)區(qū)鴻德工業(yè)園C棟3樓
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