干燥箱/烘箱產(chǎn)品及廠家
烘箱，精密烘箱用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料預(yù)處理烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門；也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗(yàn)。
更新時(shí)間:2025-01-11
抽屜烘箱，抽拉層式烘箱用于半導(dǎo)體、電子行業(yè)、軌道交通、汽車零部件、航空航天，工礦企業(yè)、大專院校、生物制藥、科研、醫(yī)療單位及各類實(shí)驗(yàn)室等作非易燃易爆物品及非揮發(fā)性物品的干燥、烘培、熔臘、滅菌之用。
更新時(shí)間:2025-01-11
真空無(wú)氧化烤箱（bcb厭氧固化烤烘箱）是將涂敷bcb或pi的襯底放入真空無(wú)氧烘箱中，通入n2→真空置換后，采用多升溫保溫的方式，在規(guī)定的時(shí)間從室溫升至一溫度階段，并在該溫度段保溫1-2h，再在規(guī)定的時(shí)間從一溫度升至第二溫度階段，并在該溫度段保溫一定的時(shí)間；隨后增通過(guò)輔助的降溫系統(tǒng)（水冷和風(fēng)冷），將退火爐的溫度降至80度左右，完成固化。
更新時(shí)間:2025-01-11
真空無(wú)氧烘箱，無(wú)氧化真空烤箱將高純度氮?dú)獬淙肟鞠鋬?nèi)部，從而置換腔內(nèi)空氣降低氧濃度，來(lái)防止部分物料在高溫環(huán)境下加速氧化的現(xiàn)象？鞠涑槿≌婵蘸，充入氮?dú)，再抽取真空，多次循環(huán)后可以確保烤箱的工作室處于無(wú)氧的狀態(tài)，避免活性較強(qiáng)的物料在高溫有氧的環(huán)境下被氧化而損壞。
更新時(shí)間:2025-01-11
hmds涂膠烤箱，mes接口hmds涂布機(jī)的主要作用是對(duì)晶圓做表面處理，以增加光阻在晶圓表面的附著力。當(dāng)晶圓送到黃光區(qū)時(shí)，表面可能有含水層，高溫烘烤后去除水氣，同時(shí)經(jīng)過(guò)hmds制程改變晶圓表面從極性到非極性，將晶圓表面的表面能被調(diào)整到與光阻表面相當(dāng)?shù)某潭龋瑥亩构庾杩梢院芎玫母街诰A表面。
更新時(shí)間:2025-01-11
硅片充氮烘箱，無(wú)氧充氮烤箱是一種提供高溫凈化環(huán)境的特殊潔凈烘干設(shè)備.適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、ic、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門。
更新時(shí)間:2025-01-11
無(wú)氧烘箱，光刻膠固化烘箱用于精密電子元件、pi膠固化烘烤、bcb固化，光刻膠固化、lcp液晶聚合物熱處理、電子陶瓷材料烘干的特殊工藝要求，
更新時(shí)間:2025-01-11
secs / gem通訊無(wú)氧烘箱，無(wú)氧烤箱在工作時(shí)，工作室內(nèi)充滿了惰性氣體co2,n2,防止材料在烘烤時(shí)被氧化。無(wú)氧化烘箱在工業(yè)中的用途：ic包裝，lcd,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板……設(shè)備可以使用tcp / ip（使用hsms標(biāo)準(zhǔn)，semi e37）或基于rs-232的協(xié)議與支持gem的主機(jī)進(jìn)行通信。通常這兩種協(xié)議都受支持。
更新時(shí)間:2025-01-11
精密熱風(fēng)烘箱的操作方法，可程式工業(yè)烘箱適用于電子業(yè) 、試驗(yàn)檢測(cè)、科研、生產(chǎn)、老化測(cè)試、pcb、pe、電解電容、橡塑料鍵盤(pán)、計(jì)算機(jī)等。電容生產(chǎn)、硅橡膠、半導(dǎo)體、lcm、lcd、led、mlcc、tft、精密陶瓷、石英振蕩器等。
更新時(shí)間:2025-01-11
熱風(fēng)循環(huán)烘箱，精密烤箱是一種高功能、高信賴度烤箱，結(jié)構(gòu)、材質(zhì)強(qiáng)度、保溫、循環(huán)風(fēng)道等均設(shè)計(jì)精良，且外形美觀、操作方便？諝庋h(huán)系統(tǒng)為水平式循環(huán)送風(fēng)，風(fēng)源由循環(huán)馬達(dá)運(yùn)轉(zhuǎn)帶動(dòng)風(fēng)輪經(jīng)電熱器，將熱風(fēng)由風(fēng)道送至烤箱內(nèi)部，且將使用后空氣吸入風(fēng)道成為風(fēng)源再度循環(huán)加熱，如此可得到較佳的溫度均勻性
更新時(shí)間:2025-01-11
芯片高溫?zé)Y(jié)箱，500℃高溫烤箱廣泛應(yīng)用于電子、電機(jī)、通訊、電鍍、塑料、五金化工、食品、印刷、制藥、pc板、粉體、含浸、噴涂、玻璃、陶瓷、木器建材.可供生產(chǎn)廠家和科研單位做三氟乙烯、四氟乙烯、pe等壓縮成型制品的燒結(jié)
更新時(shí)間:2025-01-11
芯片高溫高濕實(shí)驗(yàn)機(jī)，晶圓恒溫恒濕老化箱適用于電工、電子、儀器儀表及其它產(chǎn)品、零部件及材料在高低溫交變濕熱環(huán)境下貯存、運(yùn)輸、使用時(shí)的適應(yīng)性試驗(yàn)；
更新時(shí)間:2025-01-11
硅片百級(jí)潔凈烤箱，高溫潔凈烘箱采用單面水平由后向前送風(fēng)熱風(fēng)循環(huán)系統(tǒng)，風(fēng)源由循環(huán)馬達(dá)運(yùn)轉(zhuǎn)帶動(dòng)風(fēng)輪經(jīng)電熱器，將熱風(fēng)由風(fēng)道送至烤箱內(nèi)部，且將使用后空氣吸入風(fēng)道成為風(fēng)源再度循環(huán)加熱，省電節(jié)能溫度均勻性好，過(guò)濾效率99.99%，class 100；
更新時(shí)間:2025-01-11
hmds預(yù)處理系統(tǒng)通過(guò)對(duì)烘箱預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
更新時(shí)間:2025-01-11
hmds預(yù)處理系統(tǒng)在超薄鈮酸鋰材料的應(yīng)用它成功地將產(chǎn)品表面由親水變?yōu)槭杷，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。
更新時(shí)間:2025-01-11
hmds真空鍍膜機(jī)，光刻hmds鍍膜烤箱通過(guò)對(duì)烘箱預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
更新時(shí)間:2025-01-11
pi固化高溫烘箱，聚酰亞胺厭氧烤箱用于半導(dǎo)體/三代半導(dǎo)體/新材料/新能源等行業(yè)。bcb、pi、cpi、pbo膠固化，lcp新材料、鋰電池等產(chǎn)品熱處理。
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抗粘劑涂膠機(jī)，抗粘劑真空預(yù)處理系統(tǒng)給模板制備抗粘層，制備抗粘層的方法以及模板的結(jié)構(gòu)也會(huì)影響到終的抗粘效果。當(dāng)模板結(jié)構(gòu)在100nm以下時(shí)，在液相中制備的抗粘層就不能完全起到抗粘的作用。這是因?yàn)樵谀０宓慕锹渲袝?huì)滯留一部分空氣而導(dǎo)致抗粘材料無(wú)法到達(dá)這些位置然而，若采用氣相的方法則不存在這樣的問(wèn)題。
更新時(shí)間:2025-01-11
oap烘箱，oap處理烘箱處理主要是為了改善親水性表面，變?yōu)槭杷裕瑥亩_(dá)到增加光刻膠粘附性的作用。
更新時(shí)間:2025-01-11
高溫真空無(wú)氧烤箱js-gyzf040,雋思無(wú)氧烘箱用于pi/bcb/lcp/pbo光刻膠固化、厭氧烘烤、mems生產(chǎn)、高溫退火等工藝，適用于半導(dǎo)體、電子、新材料等研發(fā)，生產(chǎn)。常用于科研單位，高校實(shí)驗(yàn)室，工廠生產(chǎn)線等場(chǎng)所。
更新時(shí)間:2025-01-11
class1000烤箱，千級(jí)無(wú)塵烤箱用于電子液晶顯示、lcd、cmos、ic、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門。 應(yīng)用于精密電子元件、光刻膠固化、電子陶瓷材料烘干的特殊工藝要求，模擬線性升降溫環(huán)境，特別適合半導(dǎo)體制造、cob封裝、醫(yī)療衛(wèi)生、柔性線路板印刷、精密模具退火等行業(yè)的無(wú)氧化干燥烘烤工藝要求。
更新時(shí)間:2025-01-11
充氮真空烘箱，快速降溫真空烤箱用于鍵合材料的真空預(yù)處理 、bcb固化、ito膜退火，pi膠固化等工藝。廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、電子產(chǎn)品、醫(yī)療衛(wèi)生等行業(yè)，適用于工廠、高等院校、科研等場(chǎng)所。
更新時(shí)間:2025-01-11
增粘劑烤箱，hmds烘箱將hmds涂到led、半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
更新時(shí)間:2025-01-11
充氮厭氧烘箱，450度厭氧固化爐應(yīng)用于精密電子元件、聚酰亞胺層（pi）固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料烘干的特殊工藝要求，模擬線性升降溫環(huán)境，特別適合半導(dǎo)體制造、mems制作、工藝cob封裝、醫(yī)療衛(wèi)生、柔性線路板印刷、精密模具煺火等行業(yè)的無(wú)氧化干燥烘烤工藝要求。
更新時(shí)間:2025-01-11
高溫百無(wú)氧烘箱，500度厭氧潔凈烤箱用pi、bcb 膠高溫固化烘烤、銀膠固化、光刻膠固化、電子陶瓷材料、硅片退火、玻璃退火、無(wú)塵烘干的特殊工藝要求
更新時(shí)間:2025-01-11
hmds真空烘箱采用微電腦智能控溫儀，具有設(shè)定，測(cè)定溫度雙數(shù)字顯示和pid自整定功能，控溫精度高？筛鶕(jù)不同試驗(yàn)條件改變?cè)O(shè)定程序，溫度，真空度及試驗(yàn)時(shí)間。
更新時(shí)間:2025-01-11
n2潔凈烘箱是一種提供高溫凈化環(huán)境的特殊潔凈烘干設(shè)備。烘箱整機(jī)為不銹鋼結(jié)構(gòu)，全部采用無(wú)塵材料。工作室內(nèi)溫度由溫控儀自動(dòng)控制，并有自動(dòng)恒溫及時(shí)間控制裝置，并附設(shè)有超溫自動(dòng)停電及報(bào)警電路，控制可靠，使用安全。
更新時(shí)間:2025-01-11
hmds增粘劑烘箱即hmds(六甲基二硅烷)增粘劑氣相涂布，涂膠工藝的配置機(jī)臺(tái)。該設(shè)備結(jié)合了有效的真空烘烤和蒸汽氣相涂布應(yīng)用方法。在使用同一腔室過(guò)程的過(guò)程，為脫水和蒸汽灌注創(chuàng)造了一個(gè)加熱的真空環(huán)境，大大降低了晶片再水化或污染的風(fēng)險(xiǎn)。同時(shí)，提高了安全性，具有更好的安全保障。
更新時(shí)間:2025-01-11
六箱體氮?dú)夂嫦，多倉(cāng)式潔凈烘箱于光刻膠固化、堅(jiān)膜烘烤、治具干燥、芯片封裝、碳化硅襯底生產(chǎn)、外延片烘烤、墨點(diǎn)烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、led、pcb板、ito玻璃等精密電子、太陽(yáng)能
更新時(shí)間:2025-01-11
hmds蒸鍍烤箱，可程式hmds機(jī)臺(tái)通過(guò)對(duì)烘箱預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料預(yù)處理及相關(guān)行業(yè)。
更新時(shí)間:2025-01-11
無(wú)氧固化爐,高溫?zé)o氧化固化烤箱應(yīng)用于半導(dǎo)體晶片、半導(dǎo)體封裝和mems器件的批量生產(chǎn)。主要用于pi/cpi固化，bcb固化，pbo固化，lcp纖維熱處理。
更新時(shí)間:2025-01-11
電線電纜專用老化箱，gb/t 2951老化試驗(yàn)機(jī)主要適用于電線、電纜、塑料、橡膠等行業(yè)作自然通風(fēng)熱老化試驗(yàn)，也可用于工礦企業(yè)、科研單位、大專院校等實(shí)驗(yàn)室作烘焙、高溫試驗(yàn),符合gb/t 2951.12電纜和光纜絕緣和護(hù)套材料通用試驗(yàn)方法。
更新時(shí)間:2025-01-11
墨點(diǎn)烘箱，墨點(diǎn)氮?dú)夂嫦湓谛酒瓿蛇^(guò)程工藝及測(cè)試后，將硅片放入物理墨點(diǎn)的設(shè)備，輸入用程序，對(duì)一顆非完整芯粒進(jìn)行打墨點(diǎn)工藝，待打點(diǎn)完成后，將硅片放入烘箱進(jìn)行墨點(diǎn)烘干操作。
更新時(shí)間:2025-01-11
無(wú)塵烘箱，mes百級(jí)烘箱用于高精度硅上薄膜電阻制造過(guò)程中的堅(jiān)膜工藝、半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、橡膠、玻璃等材料涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤。
更新時(shí)間:2025-01-11
不銹鋼無(wú)塵烤箱，雙層無(wú)塵烘箱應(yīng)用于目關(guān)鍵的半導(dǎo)體電子行業(yè)（如硅片干燥，堅(jiān)膜烘烤，裝片機(jī)后道烘烤，塑封后烘烤，治具烘烤等），另外，雙層無(wú)塵烘箱還在led制造行業(yè)中用于烘烤玻璃基板、無(wú)機(jī)材料行業(yè)中用于材料高精度工序。
更新時(shí)間:2025-01-11
應(yīng)用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、銀膠固化、光刻膠固化、電子陶瓷材料無(wú)塵烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、led、pcb板、ito玻璃等精密電子、太陽(yáng)能、新材料等行業(yè).
更新時(shí)間:2025-01-11
百三箱潔凈烤箱，高溫潔凈烘箱定制應(yīng)用于精密電子元件、高溫烘烤、堅(jiān)膜烘烤、治具干燥、電子陶瓷材料無(wú)塵烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、led、pcb板、ito玻璃、四氟材料等精密電子、太陽(yáng)能、新材料等行業(yè).
更新時(shí)間:2025-01-11
高低溫沖擊烘箱、冷熱沖擊試驗(yàn)箱適用于電子、汽車配件、塑膠等行業(yè)，測(cè)試各種材料對(duì)高、低溫的反復(fù)沖擊能力。檢測(cè)產(chǎn)品于熱脹冷縮所產(chǎn)生的化學(xué)變化或物理傷害，確保產(chǎn)品品質(zhì)。
更新時(shí)間:2025-01-11
hmds烘箱是將hmds蒸汽通過(guò)干燥的真空腔內(nèi)加熱到(120-150°c)，在襯底表面上hmds作為單層膜進(jìn)行化學(xué)結(jié)合。
更新時(shí)間:2025-01-11
非標(biāo)石膏模具烤箱，重型轉(zhuǎn)盤(pán)烤箱定做可滿足精鑄優(yōu)質(zhì)的鋅合金模具要求，廣泛應(yīng)用于汽車輪胎、航天等工業(yè)的高品質(zhì)鋁制品。我們的烘箱的產(chǎn)品，符合國(guó)際企業(yè)對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量和文檔記錄設(shè)定的標(biāo)準(zhǔn)。
更新時(shí)間:2025-01-11
箱式電阻爐，高溫馬弗爐為周期作業(yè)式電爐，可供工礦企業(yè)、科研等單位實(shí)驗(yàn)室作化學(xué)分析、物理測(cè)定和一般小型鋼件熱處理時(shí)加熱之用。
更新時(shí)間:2025-01-11
潔凈烘箱，氮?dú)夂嫦湓诠ぷ鲿r(shí)，工作室內(nèi)充滿了惰性氣體co2,n2,防止材料在烘烤時(shí)被氧化。無(wú)氧化烘箱在工業(yè)中的用途：ic包裝，lcd,晶體管，傳感器，二管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板……
更新時(shí)間:2025-01-11
智能型無(wú)塵無(wú)氧烘箱，高溫?zé)o塵無(wú)氧化烘箱又稱為pi固化烘箱，厭氧烘箱，高溫?zé)o氧烘箱，用于pi、bcb膠高溫固化、lcp熱處理烘烤、光刻膠固化等電子，半導(dǎo)體、新材料行業(yè)。
更新時(shí)間:2025-01-11
無(wú)氧烘箱，光刻膠固化烘箱用于精密電子元件、pi膠固化烘烤、bcb固化，光刻膠固化、lcp液晶聚合物熱處理、電子陶瓷材料烘干的特殊工藝要求，
更新時(shí)間:2025-01-11
氮?dú)夂嫦，四箱氮(dú)饪鞠，不銹鋼充氮烘箱用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門；也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗(yàn)。
更新時(shí)間:2025-01-11
百級(jí)烤箱，百級(jí)充氮烤箱用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門；也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗(yàn)。
更新時(shí)間:2025-01-11
hmds熏蒸機(jī)，hmds熏蒸烤箱通過(guò)對(duì)烘箱預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
更新時(shí)間:2025-01-11
真空無(wú)氧烤箱，無(wú)氧化真空烘箱兼容性：2寸-12寸/碎片兼容。低氧濃度：可達(dá)20ppm氧氣下實(shí)現(xiàn)真空固化。能耗低，真空狀態(tài)固化，節(jié)約了80%n₂量。無(wú)污染，腔體內(nèi)部所有材料均為316l醫(yī)用不銹鋼，無(wú)任何顆粒產(chǎn)生。
更新時(shí)間:2025-01-11
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