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離子濺射儀產(chǎn)品及廠家

卷繞式濺射設(shè)備
卷繞式濺射設(shè)備spw系列spw系列設(shè)備，是可在塑料薄膜上進行光學(xué)膜、金屬膜等多層成膜的卷繞式設(shè)備。實施成膜室間的氣氛分隔，可以使高性能的多層膜一次性成膜。
更新時間:2025-01-14
批次式濺射設(shè)備
批次式濺射設(shè)備sv系列sv系列為縱型batch式濺射設(shè)備。為可以處理大量基板的回轉(zhuǎn)型設(shè)備。
更新時間:2025-01-14
Load-lock式濺射設(shè)備
load-lock式濺射設(shè)備cs-200load-lock式濺射設(shè)備cs-200，是可對應(yīng)從研究開發(fā)到小規(guī)模量產(chǎn)的濺射設(shè)備。
更新時間:2025-01-14
濺射鍍膜設(shè)備（立式）
濺射鍍膜設(shè)備smd系列（立式）smd 系列是鍍金屬膜、ito、igzo、誘電體膜等的枚葉式濺射鍍膜設(shè)備。僅smd系列就有超過1000臺的豐富的采用實績，在各種各樣的生產(chǎn)環(huán)境下運轉(zhuǎn)。及時反映從生產(chǎn)現(xiàn)場聽取的意見，進一步提高設(shè)備的可靠性。
更新時間:2025-01-14
德國sindlhauser濺射靶材
自 1995 年以來，sindlhauser materials 一直在為各地的工業(yè)公司提供種類繁多的涂層材料，例如由氧化物和非氧化物陶瓷或結(jié)合稀土金屬制成的濺射靶材，以及金屬和合金。該公司還支持使用等離子技術(shù)為各種產(chǎn)品鍍膜的行業(yè)運營。
更新時間:2025-01-14
NSC-1000 磁控濺射系統(tǒng)
nsc-1000磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能，最大到6"旋轉(zhuǎn)平臺，最大可支持到2個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7 torr，15分鐘內(nèi)可以達到10-6 torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
更新時間:2025-01-06
NSC-3000 (M) 磁控濺射系統(tǒng)
nsc-3000（m）磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能，最大到6"旋轉(zhuǎn)平臺，最大可支持到3個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7 torr，15分鐘內(nèi)可以達到10-6 torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
更新時間:2025-01-06
NSC-3000 (A) 全自動磁控濺射系統(tǒng)
nsc-3000（a）全自動磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能，最大到6"旋轉(zhuǎn)平臺，最大可支持到3個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7 torr，15分鐘內(nèi)可以達到10-6 torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
更新時間:2025-01-06
NSC-4000 (A) 全自動磁控濺射系統(tǒng)
nsc-4000（a）全自動磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能，最大到6"旋轉(zhuǎn)平臺，最大可支持到4個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7 torr，15分鐘內(nèi)可以達到10-6 torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
更新時間:2025-01-06
桌面式小型濺射儀
桌面式小型濺射儀kt-z1650pvd磁控濺射是一種常用的物理氣相沉積（pvd）的方法，具有沉積溫度低、沉積速度快、所沉積的薄膜均勻性好，成分接近靶材成分等眾多優(yōu)點。
更新時間:2024-12-27
桌面式濺射儀
桌面式濺射儀kt-z1650pvd是一款高度集成化智能化的臺式磁控濺射系統(tǒng)。體積小巧，但是功能出色、配置齊全。配有水冷靶，自動樣品擋板，可調(diào)節(jié)濺射源距離，觸摸屏控制，工藝儲存等功能，方便快捷。
更新時間:2024-12-27

最新產(chǎn)品
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