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無掩模光刻機(jī)/直寫光刻機(jī)產(chǎn)品及廠家

SI激光打標(biāo)機(jī)
本產(chǎn)品用于4~6英寸si類晶片打標(biāo)。設(shè)備全自動(dòng)上下片，全自動(dòng)定位？梢允褂脭(shù)字，文字，條形碼在晶片任意部位打標(biāo)。打標(biāo)速度120片每小時(shí).
更新時(shí)間:2024-08-26
無掩模光刻機(jī)VPG 300 DI
無掩模光刻機(jī)vpg 300 di是一款體積圖案發(fā)生器，為在 i 線光刻膠中直接寫入高分辨率微結(jié)構(gòu)而設(shè)計(jì)。它源自掩模制作工具，具有所有先進(jìn)的 vpg 系統(tǒng)組件，能夠以高的精度和準(zhǔn)確度進(jìn)行書寫。大寫入?yún)^(qū)域覆蓋 300 mm 晶圓。
更新時(shí)間:2024-08-14
DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻機(jī)
dwl 2000 gs / dwl 4000 gs 激光光刻系統(tǒng)是快速、靈活的高分辨率圖形發(fā)生器。它們針對工業(yè)灰度光刻進(jìn)行了優(yōu)化，設(shè)計(jì)用于集成電路、mems、微光學(xué)和微流體器件、傳感器、全息圖以及鈔票的防偽特征的掩模和晶圓的高通量圖案化。
更新時(shí)間:2024-08-14
MPO 100雙光子聚合直寫光刻機(jī)
mpo 100雙光子聚合直寫光刻機(jī)是一種雙光子聚合 （tpp） 多用戶工具，用于微結(jié)構(gòu)的 3d 光刻和 3d 顯微打印，適用于微光學(xué)、光子學(xué)、微機(jī)械學(xué)和生物醫(yī)學(xué)工程。模塊化 3d 打印平臺(tái) mpo 100 可按需提供高精度 3d 光刻以及 3d 顯微打印的高打印量，并能夠在單個(gè)工藝步驟中以高吞吐量生產(chǎn)復(fù)雜的功能性微結(jié)構(gòu)。
更新時(shí)間:2024-08-14
UV Litho-S 無掩膜光刻機(jī)
speed系列是高速版的無掩膜版紫外光刻機(jī)，其無掩膜光刻機(jī)配備了先進(jìn)的高速空間光調(diào)制器以及高功率紫外激光器。這一系列的光刻機(jī)不僅保證了高精度和高靈活性，更在這一基礎(chǔ)上，擁有了更高的光刻效率。其的性能特點(diǎn)使其特別適合小批量生產(chǎn)的場景。在該場景中，它能夠發(fā)揮出其高效的優(yōu)勢，為生產(chǎn)帶來更高的效率和更好的質(zhì)量。
更新時(shí)間:2024-08-14
BIO L+ 無掩膜光刻機(jī)
bio系列是生命科學(xué)版的無掩膜紫外光刻機(jī)，該設(shè)備具有更高的深寬比，能滿足生命科學(xué)域的特殊需求。它主要用于制備像微流控芯片之類的具有特定需求的樣品 。在微流控芯片的制造過程中，其高深寬比和高靈活性的特點(diǎn)得以展現(xiàn)，可確保芯片的質(zhì)量和性能。這使得它成為生命科學(xué)研究和相關(guān)應(yīng)用中的重要工具。
更新時(shí)間:2024-08-14
VPG 300 DI 無掩模直接成像儀光刻機(jī)
pg 300 di 是一款體積圖案發(fā)生器，為在 i 線光刻膠中直接寫入高分辨率微結(jié)構(gòu)而設(shè)計(jì)。它源自掩模制作工具，具有所有先進(jìn)的 vpg 系統(tǒng)組件，能夠以高的精度和準(zhǔn)確度進(jìn)行書寫。大寫入?yún)^(qū)域覆蓋
更新時(shí)間:2024-08-14
ULTRA半導(dǎo)體光掩模光刻機(jī)
ultra半導(dǎo)體光掩模光刻機(jī)是門用于成熟半導(dǎo)體光掩模的合格激光掩模機(jī)。半導(dǎo)體光掩模用于制造電子設(shè)備，包括微控制器、電源管理、led、物聯(lián)網(wǎng) （iot） 和 mems。ultra 是一種經(jīng)濟(jì)型光刻機(jī)解決方案，具有高吞吐量、精度和結(jié)構(gòu)均勻性以及其精確的對準(zhǔn)所需的所有特性和功能。標(biāo)準(zhǔn)配置包括全自動(dòng)掩模處理、zerodur® 平臺(tái)、低失真光學(xué)元件和高精度位置控制等功能。
更新時(shí)間:2024-08-14
μMLA無掩模光刻機(jī)
臺(tái)式 μmla 系統(tǒng)是先進(jìn)的無模板技術(shù)，建立在的 μpg 平臺(tái)之上，該平臺(tái)是全球高的臺(tái)式無模板系統(tǒng)。
更新時(shí)間:2024-08-14
MLA 300 無掩模光刻機(jī)
mla 300 無掩模光刻機(jī) 提供高吞吐量、簡化的工作流程以及與制造執(zhí)行系統(tǒng) （mes） 的集成。該工具用于生產(chǎn)傳感器和傳感器 ic、mems 和微流體器件。其他應(yīng)用包括分立電子元件、模擬和數(shù)字 ic、asic、電力電子、oled 顯示器和先進(jìn)封裝。
更新時(shí)間:2024-08-14
手動(dòng)光刻機(jī)
ms6-ca手動(dòng)光刻機(jī)是一款高性能的精密加工設(shè)備，為微電子、半導(dǎo)體、光電等域的研發(fā)與生產(chǎn)設(shè)計(jì)
更新時(shí)間:2024-08-13
電子束光刻設(shè)備
els-boden σ這是elonix自創(chuàng)業(yè)以來多年來一直致力于開發(fā)的新型號(hào)的電子束光刻設(shè)備。 采用模塊系統(tǒng)，可以自由組合加速電壓、腔室尺寸、傳輸機(jī)構(gòu)和防振臺(tái)，為每個(gè)應(yīng)用構(gòu)建佳單元。
更新時(shí)間:2024-08-09
電子束光刻設(shè)備
els-boden是由elionix開發(fā)的電子束光刻設(shè)備，非常適合研究和開發(fā)！支持從高清繪圖到大電流高速繪圖的廣泛應(yīng)用。
更新時(shí)間:2024-08-09
電子束光刻設(shè)備
els-hayate是由elionix研發(fā)的超高吞吐量電子束光刻設(shè)備，提供業(yè)界大的 5 毫米偏轉(zhuǎn)。，非常適合需要關(guān)注字段間拼接錯(cuò)誤的應(yīng)用。
更新時(shí)間:2024-08-09
E30-H 上海小型無刷攪拌機(jī)
實(shí)驗(yàn)室攪拌機(jī)系列e30-h電動(dòng)數(shù)顯攪拌器（型）e30-h應(yīng)用領(lǐng)域|上海小型無刷攪拌機(jī)*_e30-h適用于生物、理化、化妝品、保健品、食品、試劑等實(shí)驗(yàn)領(lǐng)域。是液體混和攪拌的實(shí)驗(yàn)設(shè)備。產(chǎn)品理念設(shè)計(jì)新穎、制
更新時(shí)間:2024-06-09
激光打標(biāo)機(jī)
本產(chǎn)品用于4~6英寸sic(含si）類晶片打標(biāo)。設(shè)備全自動(dòng)上下片，全自動(dòng)定位？梢允褂脭(shù)字，文字，條形碼在晶片任意部位打標(biāo)。打標(biāo)速度120片每小時(shí).
更新時(shí)間:2024-02-01
無掩膜激光直寫納米光刻機(jī)
dali無掩膜納米光刻機(jī)是一款采用亞納米精度激光操控技術(shù)為核心的超穩(wěn)定，桌面型，高精度，高速激光直寫設(shè)備。其核心技術(shù)已經(jīng)在在亞納米精度要求的儀器設(shè)備中經(jīng)過十幾年的應(yīng)用檢驗(yàn)。超高精度，和超高穩(wěn)定性是dali無掩膜納米光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)高性能的基礎(chǔ)。
更新時(shí)間:2023-08-18

最新產(chǎn)品
熱門儀器： 液相色譜儀 氣相色譜儀 原子熒光光譜儀 可見分光光度計(jì) 液質(zhì)聯(lián)用儀 壓力試驗(yàn)機(jī) 酸度計(jì)（PH計(jì)） 離心機(jī) 高速離心機(jī) 冷凍離心機(jī) 生物顯微鏡 金相顯微鏡 標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì) 生物試劑