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其他產(chǎn)品及廠家

TRZE65M ART NR:171-01052備件 FESTOADN-16-15-I-P-A備件 R+WEK
上海祥樹，只做歐洲原裝進(jìn)口！（1流的報(bào)價(jià)速度+優(yōu)惠的價(jià)格+100%原裝進(jìn)口）我司業(yè)供應(yīng)歐洲工控產(chǎn)品、儀器儀表及備品備件，歡迎來電咨詢。
更新時(shí)間:2024-12-26
電壓擊穿測試儀
hcdjc系列電壓擊穿測試儀采用計(jì)算機(jī)控制，通過人機(jī)對話方式，完成對絕緣介質(zhì)的工頻電壓擊穿，工頻耐壓試驗(yàn)。電壓擊穿試驗(yàn)儀主要適用于固體絕緣材料如絕緣漆、樹脂和膠、浸漬纖維制品、云母及其制品、塑料、薄膜復(fù)合制品、陶瓷和玻璃等介質(zhì)在工頻電壓或直流電壓下?lián)舸⿵?qiáng)度和耐電壓時(shí)間的測試；電壓擊穿試驗(yàn)儀采用計(jì)算機(jī)控制，可對試驗(yàn)過程中的各種數(shù)據(jù)進(jìn)行快速、準(zhǔn)確的采集、處理，并可存取、顯示、打印。
更新時(shí)間:2024-12-08
華測高壓油浴極化試驗(yàn)設(shè)備 4路極化 可定制多通道
hcjh-10kv高壓化裝置針對不同樣品和不同電壓，實(shí)現(xiàn)多樣品同時(shí)化，同時(shí)生成化曲線，可快速判斷佳化電場、溫度和時(shí) 間，性能更好，操作更加方便。
更新時(shí)間:2024-12-08
華測 數(shù)字電荷量表 定制不同規(guī)格法拉第筒
電荷量表，一、產(chǎn)品概述，4位半huace-111a系列電荷量表結(jié)合了華測高靈敏度電壓、電流測量儀器的技術(shù)優(yōu)勢以及更快的速度和更高的耐用性。定制不同規(guī)格法拉第筒。
更新時(shí)間:2024-12-08
華測 靜電電荷儀
電荷量表huace-111a一、產(chǎn)品概述4位半huace-111a系列電荷量表結(jié)合了華測高靈敏度電壓、電流測量儀器的技術(shù)優(yōu)勢以及更快的速度和更高的耐用性。這款經(jīng)濟(jì)型的儀器具有手動(dòng)電荷量
更新時(shí)間:2024-12-08
華測 電荷量測試儀
電荷量表huace-111a一、產(chǎn)品概述4位半huace-111a系列電荷量表結(jié)合了華測高靈敏度電壓、電流測量儀器的技術(shù)優(yōu)勢以及更快的速度和更高的耐用性。這款經(jīng)濟(jì)型的儀器具有手動(dòng)電荷量
更新時(shí)間:2024-12-08
華測 粉體液體固體帶電電荷量
電荷量表huace-111a一、產(chǎn)品概述4位半huace-111a系列電荷量表結(jié)合了華測高靈敏度電壓、電流測量儀器的技術(shù)優(yōu)勢以及更快的速度和更高的耐用性。這款經(jīng)濟(jì)型的儀器具有手動(dòng)電荷量
更新時(shí)間:2024-12-08
半導(dǎo)體靜態(tài)參數(shù)測試儀/晶體管直流參數(shù)測試系統(tǒng)
dct2000晶體管直流參數(shù)測試系統(tǒng)是由我公司完全自主開發(fā)設(shè)計(jì)的一代“晶體管直流參數(shù)測試系統(tǒng)”。軟件及硬件均由團(tuán)隊(duì)自主完成。高壓源標(biāo)配2000v，高流源標(biāo)配40a（選配100a,200a,300a,500a）柵極電壓40v，產(chǎn)品可測試si,sic,gan材料的igbts,diodes,mosfets,bjts,scrs等7大類26分類的電子元器件。
更新時(shí)間:2024-11-25
高性能邏輯分析儀
是德科技高性能邏輯分析儀提供可靠、精確的測量，以及對系統(tǒng)特性全面的洞察力，幫助您盡可能降低項(xiàng)目風(fēng)險(xiǎn)。這個(gè)邏輯分析儀產(chǎn)品系列提供了豐富的測量功能，以及各種探測、應(yīng)用支持和分析工具，可以滿足用戶苛刻的數(shù)字調(diào)試需求。
更新時(shí)間:2024-08-16
精密型電流－電壓分析儀
精密型電流－電壓分析儀系列將功能強(qiáng)大的表征軟件與綜合 smu 完美結(jié)合，能夠確保準(zhǔn)確和高效的電流－電壓測量，為您分析各種應(yīng)用中的 iv 特征提供清晰的洞察力。
更新時(shí)間:2024-08-16
散熱器充氮?dú)獗豪匣囼?yàn)箱
該系列設(shè)備是各種烘烤、老化實(shí)驗(yàn)中，常用設(shè)備之一，適用于電子儀器儀表、材料、電工、車輛、金屬、電子產(chǎn)品、各種電子元?dú)饧跍囟拳h(huán)境下、檢驗(yàn)其各性能項(xiàng)指針.及質(zhì)量管理之用.
更新時(shí)間:2024-08-15
CT系統(tǒng)
cc系列亮點(diǎn)可靠、快速、可重復(fù)的檢測 - 手動(dòng)和自動(dòng)使用 voidinspect 自動(dòng)計(jì)算空隙易于使用的動(dòng)態(tài)增強(qiáng)濾鏡，例如 ehdr&#
更新時(shí)間:2024-08-15
CT系統(tǒng)
用于先進(jìn)封裝的亞微米3dx射線，ca20旨在以高分辨率提供卓越的2d和3d圖像，它允許對微米細(xì)節(jié)進(jìn)行快的檢測，并有助于縮短復(fù)雜3d ic的上市時(shí)間。
更新時(shí)間:2024-08-15
薄膜計(jì)量膜厚探頭
ftpadv是一種經(jīng)濟(jì)高效的臺式光譜反射解決方案，具有快速厚度測量功能。測量時(shí)間不到 100 ms，精度低于 0.3 nm，膜厚范圍為 50 nm – 25 μm。包括一系列預(yù)定義的配方，便于光譜反射儀操作
更新時(shí)間:2024-08-14
薄膜計(jì)量光譜反射儀
rm 1000 和 rm 2000 光譜反射儀可測量表面光滑或粗糙的平面或彎曲樣品的反射率。使用sentech ftpadv expert軟件計(jì)算單膜或?qū)盈B的厚度、消光系數(shù)和折射率。厚度分別為 2 nm 和 50 μm （rm 2000） 或 100 μm （rm 1000） 的單片、層疊和基板可以在 uv-vis-nir 光譜范圍內(nèi)進(jìn)行分析。
更新時(shí)間:2024-08-14
薄膜計(jì)量光譜反射儀軟件
ftpadv expert薄膜測量軟件具有ftpadv標(biāo)準(zhǔn)軟件中包含的用戶友好和以配方為導(dǎo)向的操作概念。突出顯示擬合參數(shù)、測量和計(jì)算的反射光譜以及主要結(jié)果的光學(xué)模型同時(shí)顯示在操作屏幕上。
更新時(shí)間:2024-08-14
薄膜計(jì)量光譜儀軟件
spectraray/4 是 sentech 有的光譜橢圓偏振儀軟件，包括橢圓、反射和透射數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)采集、建模、擬合和擴(kuò)展報(bào)告。它支持可變角度、多實(shí)驗(yàn)和組合光度測量。 包括一個(gè)基于 sentech 厚度測量和文獻(xiàn)數(shù)據(jù)的龐大而全面的材料數(shù)據(jù)庫。大量的色散模型允許對幾乎任何類型的材料進(jìn)行建模。
更新時(shí)間:2024-08-14
薄膜計(jì)量紅外光譜橢圓儀
sentech sendira 為紅外 （ftir） 而設(shè)計(jì)。這款緊湊的臺式儀器包括吹掃橢偏儀光學(xué)元件、計(jì)算機(jī)控制的測角儀、水平樣品平臺、自動(dòng)準(zhǔn)直望遠(yuǎn)鏡、商用 ftir 和 dtgs 或 mct 檢測器。ftir 在 400 cm-1 至 6,000 cm-1 （1.7 μm – 25 μm） 的光譜范圍內(nèi)提供出色的精度和高分辨率。
更新時(shí)間:2024-08-14
薄膜計(jì)量橢圓光譜儀
sentech senpro 橢圓偏振光譜儀具有操作簡單、測量速度快、不同入射角橢偏振測量的組合數(shù)據(jù)分析等特點(diǎn)。它的測量光譜范圍為 370 nm 至 1,050 nm。該工具的光譜范圍與先進(jìn)的軟件 spectraray/4 相結(jié)合，可以輕松確定單片薄膜和復(fù)雜層疊的厚度和折射率。
更新時(shí)間:2024-08-14
薄膜計(jì)量橢圓光譜儀
sentech senresearch 4.0 使用快速 ftir 橢圓偏振法分別測量高達(dá) 2,500 nm 或 3,500 nm 的近紅外光譜。它提供寬的光譜范圍、佳的信噪比和高的可選光譜分辨率？梢詼y量厚度達(dá) 200 μm 的硅膜。ftir橢圓偏振儀的測量速度與二管陣列配置相比，二管陣列配置也可選擇高達(dá)1,700 nm。
更新時(shí)間:2024-08-14
全自動(dòng)薄膜質(zhì)量控制
sentech senduro®mems 提供配置靈活性，以滿足生產(chǎn)控制和質(zhì)量控制的要求。該工具可以配置反射法和橢圓偏振法中的μ點(diǎn)測量，以及提供準(zhǔn)確測量位置的模式識別。所有測量都可以與邊緣抓取技術(shù)相結(jié)合。
更新時(shí)間:2024-08-14
薄膜計(jì)量激光橢圓儀
sentech se 500adv結(jié)合了橢圓偏振法和反射法，消除了測量透明薄膜層厚的模糊性。它將可測量的厚度擴(kuò)展到 25 μm。因此，se 500adv 擴(kuò)展了標(biāo)準(zhǔn)激光橢偏儀 se 400adv 的功能，特別適用于分析較厚的電介質(zhì)、有機(jī)材料、光刻膠、硅和多晶硅薄膜。
更新時(shí)間:2024-08-14
CT系統(tǒng)
comet yxlon開發(fā)了ctscan 3線探測器陣列（lda），以滿足客戶的特殊要求和具有挑戰(zhàn)性的應(yīng)用。憑借其所未有的信噪比、動(dòng)態(tài)范圍和 254 μm 的像素間距，它是對大型和/或密集組件進(jìn)行清晰檢測的無可替代的解決方案。它設(shè)計(jì)用于高達(dá) 600 kv 的工作電壓，可減少不必要的散射輻射，并提供低噪聲電子設(shè)備和高效閃爍體。
更新時(shí)間:2024-08-14
超聲掃描顯微鏡
pva tepla 超聲掃描顯微鏡sam premium系列結(jié)合了聲學(xué)顯微鏡和光學(xué)顯微鏡。它使超聲掃描平臺與倒置光學(xué)顯微鏡或反射式光學(xué)顯微鏡相結(jié)合。sam premium系列所使用的技術(shù)是以融合了生產(chǎn)和研究技術(shù)的核心平臺為基礎(chǔ)。sam premium系列旗下各個(gè)系統(tǒng)均具有高產(chǎn)量、高靈活性和寬廣的掃描范圍等特性。此外，各系統(tǒng)還可以根據(jù)客戶的要求進(jìn)行擴(kuò)展，并用于多樣化的應(yīng)用。
更新時(shí)間:2024-08-13
DSM8/200 Gen2測量系統(tǒng)
dsm8/200 gen2測量系統(tǒng)用于研發(fā)和大量產(chǎn)的對準(zhǔn)測量suss dsm為廣泛的應(yīng)用和基板提供從正面到反面的測量。測量結(jié)果詳細(xì)列出了了偏移矢量的各個(gè)分量：平移、旋轉(zhuǎn)和跳動(dòng)。該系統(tǒng)所需占地面積很小，因此擁有成本低。同時(shí)，它為雙面的對準(zhǔn)與曝光應(yīng)用提供了可靠、其精確的測量，這些是mems器件、功率半導(dǎo)體和光電子制造中會經(jīng)常用到的。
更新時(shí)間:2024-08-13
超聲波掃描顯微鏡
pva tepla sam系列的超聲波掃描顯微鏡使用簡單，操作方便，是一款用于過程控制和質(zhì)量保證，以及研究應(yīng)用的無損檢測設(shè)備。sam系列旗下各型號均統(tǒng)一由一個(gè)符合行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的組件平臺衍生而來，在此基礎(chǔ)上，再融入了先進(jìn)的生產(chǎn)和制造技術(shù)。
更新時(shí)間:2024-08-13
全自動(dòng)超聲波掃描顯微鏡
pva tepla sam 全自動(dòng)系列的自動(dòng)超聲波掃描顯微鏡能夠無損檢測空洞、空隙、氣泡、夾雜物和分層，是圓檢測、焊接界面檢查、mems檢測、以及各類電子封裝檢測的理想選擇。該系列配有自動(dòng)缺陷檢測軟件包，可對各種缺陷類型進(jìn)行全自動(dòng)化評估，檢測結(jié)果可以以klarf文件和vega map的形式發(fā)布，同時(shí)支持鏈接gem/secs。根據(jù)所需分析樣品，可以選擇不同掃描儀配置，如：4×1、4×2或4×4。
更新時(shí)間:2024-08-13
超顯微壓痕硬度計(jì)
“elionix "系列第五代超顯微壓痕硬度計(jì)，在日本制造的納米壓痕測試儀具有友好的 gui，通過抑制測量環(huán)境中的干擾實(shí)現(xiàn)高數(shù)據(jù)再現(xiàn)性。
更新時(shí)間:2024-08-12
無圖晶圓幾何形貌量測系統(tǒng)
wd4000無圖晶圓幾何形貌量測系統(tǒng)通過非接觸測量，將晶圓的三維形貌進(jìn)行重建，強(qiáng)大的測量分析軟件穩(wěn)定計(jì)算晶圓厚度，ttv，bow、warp、在高效測量測同時(shí)有效防止晶圓產(chǎn)生劃痕缺陷。
更新時(shí)間:2024-07-30
半導(dǎo)體晶圓表面形貌參數(shù)測量儀
wd4000半導(dǎo)體晶圓表面形貌參數(shù)測量儀通過非接觸測量，將晶圓的三維形貌進(jìn)行重建，強(qiáng)大的測量分析軟件穩(wěn)定計(jì)算晶圓厚度，ttv，bow、warp、在高效測量測同時(shí)有效防止晶圓產(chǎn)生劃痕缺陷。
更新時(shí)間:2024-07-30
半導(dǎo)體晶圓厚度Warp檢測設(shè)備
wd4000半導(dǎo)體晶圓厚度warp檢測設(shè)備自動(dòng)測量 wafer 厚度、表面粗糙度、三維形貌、單層膜厚、多層膜厚。使用光譜共焦對射技術(shù)測量晶圓 thickness、ttv、ltv、bow、warp、tir、sori 等參數(shù)，同時(shí)生成 mapping 圖
更新時(shí)間:2024-07-30
晶圓厚度粗糙度微納三維形貌測量儀器
wd4000晶圓厚度粗糙度微納三維形貌測量儀器通過非接觸測量，將晶圓的三維形貌進(jìn)行重建，強(qiáng)大的測量分析軟件穩(wěn)定計(jì)算晶圓厚度，ttv，bow、warp、在高效測量測同時(shí)防止晶圓產(chǎn)生劃痕缺陷。
更新時(shí)間:2024-07-30
WD4000晶圓翹曲度厚度粗糙度表面形貌檢測設(shè)備
中圖儀器wd4000晶圓翹曲度厚度粗糙度表面形貌檢測設(shè)備通過非接觸測量，將晶圓的三維形貌進(jìn)行重建。它采用的高精度光譜共焦傳感技術(shù)、光干涉雙向掃描技術(shù)，完成非接觸式掃描并建立3d mapping圖，能實(shí)現(xiàn)晶圓厚度、ttv、ltv、bow、warp、tir、sori、等反應(yīng)表面形貌的參數(shù)。
更新時(shí)間:2024-07-30
WD4000國產(chǎn)半導(dǎo)體晶圓翹曲度粗糙度表面形貌測量系統(tǒng)
wd4000國產(chǎn)半導(dǎo)體晶圓翹曲度粗糙度表面形貌測量系統(tǒng)兼容不同材質(zhì)不同粗糙度、可測量大翹曲wafer、測量晶圓雙面數(shù)據(jù)更準(zhǔn)確。它采用白光光譜共焦多傳感器和白光干涉顯微測量雙向掃描技術(shù)，完成非接觸式掃描并建立表面3d層析圖像，實(shí)現(xiàn)wafer厚度、翹曲度、平面度、線粗糙度、總體厚度變化(ttv)及分析反映表面質(zhì)量的2d、3d參數(shù)。
更新時(shí)間:2024-07-30
半導(dǎo)體晶圓粗糙度翹曲度檢測設(shè)備
wd4000半導(dǎo)體晶圓粗糙度翹曲度檢測設(shè)備集成厚度測量模組和三維形貌、粗糙度測量模組，使用一臺機(jī)器便可完成厚度、ttv、ltv、bow、warp、粗糙度、及三維形貌的測量。
更新時(shí)間:2024-07-30
沉積薄膜臺階高度測量儀
中圖儀器ns系列沉積薄膜臺階高度測量儀是一款超精密接觸式微觀輪廓測量儀器，其主要用于臺階高、膜層厚度、表面粗糙度等微觀形貌參數(shù)的測量。其采用lvdc電容傳感器，具有的亞埃分辨率和超微測力等特點(diǎn)使得其在薄膜厚度的測量上具有很強(qiáng)的優(yōu)勢。
更新時(shí)間:2024-07-30
半導(dǎo)體晶圓幾何量測設(shè)備
中圖儀器wd4000半導(dǎo)體晶圓幾何量測設(shè)備可實(shí)現(xiàn)砷化鎵、氮化鎵、磷化鎵、鍺、磷化銦、鈮酸鋰、藍(lán)寶石、硅、碳化硅、玻璃不同材質(zhì)晶圓的量測。通過非接觸測量，將晶圓的三維形貌進(jìn)行重建，強(qiáng)大的測量分析軟件穩(wěn)定計(jì)算晶圓厚度，ttv，bow、warp、在高效測量測同時(shí)有效防止晶圓產(chǎn)生劃痕缺陷。
更新時(shí)間:2024-07-30
半導(dǎo)體無圖晶圓幾何形貌檢測機(jī)
wd4000半導(dǎo)體無圖晶圓幾何形貌檢測機(jī)可測各類包括從光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物體表面，從納米到微米別工件的厚度、粗糙度、平整度、微觀幾何輪廓、曲率等。自動(dòng)測量wafer厚度、表面粗糙度、三維形貌、單層膜厚、多層膜厚。
更新時(shí)間:2024-07-30
半導(dǎo)體晶圓粗糙度表面形貌測量儀
wd4000半導(dǎo)體晶圓粗糙度表面形貌測量設(shè)備采用白光光譜共焦多傳感器和白光干涉顯微測量雙向掃描技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)wafer厚度、翹曲度、平面度、線粗糙度、總體厚度變化(ttv)及分析反映表面質(zhì)量的2d、3d參數(shù)。
更新時(shí)間:2024-07-30
半導(dǎo)體晶圓制程檢測設(shè)備幾何量測系統(tǒng)
wd4000半導(dǎo)體晶圓制程檢測設(shè)備幾何量測系統(tǒng)通過非接觸測量，將晶圓的三維形貌進(jìn)行重建，強(qiáng)大的測量分析軟件穩(wěn)定計(jì)算晶圓厚度，ttv，bow、warp、在高效測量測同時(shí)防止晶圓產(chǎn)生劃痕缺陷。wd4000兼容不同材質(zhì)不同粗糙度、可測量大翹曲wafer、測量晶圓雙面數(shù)據(jù)更準(zhǔn)確。
更新時(shí)間:2024-07-30
晶圓厚度翹曲度粗糙度檢測設(shè)備
wd4000晶圓厚度翹曲度粗糙度檢測設(shè)備廣泛應(yīng)用于襯底制造、晶圓制造、及封裝工藝檢測、3c電子玻璃屏及其精密配件、光學(xué)加工、顯示面板、mems器件等超精密加工行業(yè)。測量各類包括從光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物體表面，從納米到微米級別工件的厚度、粗糙度、平整度、微觀幾何輪廓、曲率等。
更新時(shí)間:2024-07-30
晶圓厚度表面粗糙度微納三維形貌量測系統(tǒng)
wd4000晶圓厚度表面粗糙度微納三維形貌量測系統(tǒng)通過非接觸測量，將晶圓的三維形貌進(jìn)行重建，強(qiáng)大的測量分析軟件穩(wěn)定計(jì)算晶圓厚度，ttv，bow、warp、在高效測量測同時(shí)防止晶圓產(chǎn)生劃痕缺陷。
更新時(shí)間:2024-07-30
無圖晶圓膜厚檢測設(shè)備
wd4000無圖晶圓膜厚檢測設(shè)備采用高精度光譜共焦傳感技術(shù)、光干涉雙向掃描技術(shù)，完成非接觸式掃描并建立3d mapping圖，實(shí)現(xiàn)晶圓厚度、ttv、ltv、bow、warp、tir、sori、等反應(yīng)表面形貌的參數(shù)。
更新時(shí)間:2024-07-30
晶圓表面三維形貌測量設(shè)備
wd4000晶圓表面三維形貌測量設(shè)備提供調(diào)整位置、糾正、濾波、提取四大模塊的數(shù)據(jù)處理功能。其中調(diào)整位置包括圖像校平、鏡像等功能；糾正包括空間濾波、修描、尖峰去噪等功能；濾波包括去除外形、標(biāo)準(zhǔn)濾波、過濾頻譜等功能；提取包括提取區(qū)域和提取剖面等功能。
更新時(shí)間:2024-07-30
無圖晶圓幾何量測系統(tǒng)
wd4000無圖晶圓幾何量測系統(tǒng)自動(dòng)測量wafer厚度、表面粗糙度、三維形貌、單層膜厚、多層膜厚。
更新時(shí)間:2024-07-30
晶圓幾何形貌測量及參數(shù)自動(dòng)檢測機(jī)
wd4000晶圓幾何形貌測量及參數(shù)自動(dòng)檢測機(jī)采用高精度光譜共焦傳感技術(shù)、光干涉雙向掃描技術(shù)，完成非接觸式掃描并建立3d mapping圖，實(shí)現(xiàn)晶圓厚度、ttv、ltv、bow、warp、tir、sori、等反應(yīng)表面形貌的參數(shù)。
更新時(shí)間:2024-07-30
晶圓表面形貌量測設(shè)備
wd4000晶圓表面形貌量測設(shè)備通過非接觸測量，將晶圓的三維形貌進(jìn)行重建，強(qiáng)大的測量分析軟件穩(wěn)定計(jì)算晶圓厚度，ttv，bow、warp、在高效測量測同時(shí)有效防止晶圓產(chǎn)生劃痕缺陷。
更新時(shí)間:2024-07-30
GWM-晶圓缺陷檢測系統(tǒng)
全自動(dòng)晶圓缺陷檢測設(shè)備 能檢測pinhole等多重缺陷。1.晶圓正反表面缺陷2.晶圓內(nèi)部缺陷3.晶圓邊緣斜面缺陷4.晶圓邊緣頂點(diǎn)缺陷5.晶圓v-notch缺陷6.晶圓形狀缺陷
更新時(shí)間:2023-05-22

最新產(chǎn)品
熱門儀器： 液相色譜儀 氣相色譜儀 原子熒光光譜儀 可見分光光度計(jì) 液質(zhì)聯(lián)用儀 壓力試驗(yàn)機(jī) 酸度計(jì)（PH計(jì)） 離心機(jī) 高速離心機(jī) 冷凍離心機(jī) 生物顯微鏡 金相顯微鏡 標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì) 生物試劑