光學(xué)平臺(tái)產(chǎn)品及廠家
adz 系列傳承了豐碩業(yè)績帶來的設(shè)計(jì)理念，針對(duì)客戶各種需求能一一作出解答。adz 系列的產(chǎn)品是自由多變、可轉(zhuǎn)換型系列產(chǎn)品。adz 系列產(chǎn)品進(jìn)一步提高了除振性能，大幅改善工作的舒適性，從而提高工作積極性與工作效率。同時(shí)，追加了更大尺寸的負(fù)載臺(tái)，提高了負(fù)載臺(tái)的操作性。以上特點(diǎn)，避免了您為選擇負(fù)載機(jī)器的種類和使用場所的苦惱，實(shí)現(xiàn)了高性價(jià)比的除振裝置。
更新時(shí)間:2025-01-15
因?yàn)楣鈱W(xué)實(shí)驗(yàn)對(duì)除振功能并沒有特殊的要求，針對(duì)于光學(xué)實(shí)驗(yàn)用平臺(tái)，我們?yōu)槟峁┚哂懈邉傂、高阻尼的輕量級(jí)rhs 系列產(chǎn)品。我們?yōu)槟峁┑漠a(chǎn)品是搭配了蜂窩平板，并應(yīng)用了橡膠阻尼式除振裝置的平臺(tái)。因此，我們的產(chǎn)品能確保光學(xué)平臺(tái)所有特性的高水準(zhǔn)。如果您對(duì)除振功能有需求，我們的產(chǎn)品也能滿足您的任何要求。
更新時(shí)間:2025-01-15
dvio-b系列光學(xué)平臺(tái)為韓國daeil（大一）株式會(huì)社生產(chǎn)的50/100/200/300mm厚的不銹鋼面包板（也用于作為大一光學(xué)平臺(tái)臺(tái)面），該面包板整體采用三層夾心式結(jié)構(gòu)，上臺(tái)面為熱變形系數(shù)很小的430系列高導(dǎo)磁鎳合不銹鋼，中間為真蜂窩支撐結(jié)構(gòu)，底面為鋼板，具有高剛性和非常優(yōu)秀的隔振效果。
更新時(shí)間:2025-01-15
zlt（zolix low cost pneumatic optical table）系列為卓立漢光自行生產(chǎn)的氣浮式隔振光學(xué)平臺(tái)，整體高度800mm，分為臺(tái)面和支撐兩部分。臺(tái)面采用三層夾心式結(jié)構(gòu)，上臺(tái)面為鐵磁不銹鋼，上臺(tái)面厚度4 ～ 6mm，中間為井字形蜂窩支撐結(jié)構(gòu)，底面為碳鋼板，臺(tái)面具有高剛性和非常優(yōu)秀的隔振效果。上臺(tái)面采用精密磨削工藝
更新時(shí)間:2025-01-15
thp（true honeycomb pneumatic：optical table）系列為我公司正在研制的氣浮式支架配合真蜂窩臺(tái)面的隔振光學(xué)平臺(tái)，設(shè)計(jì)性能達(dá)到國際水平，平臺(tái)分為真蜂窩臺(tái)面和氣浮支架兩部分，臺(tái)面采用三層夾心式結(jié)構(gòu)，上臺(tái)面為1cr13鐵磁不銹鋼，上臺(tái)面厚度4～6mm，內(nèi)部為真蜂窩支撐結(jié)構(gòu)，底面為碳鋼板，臺(tái)面具有高剛性和非常優(yōu)秀的隔振效果。上臺(tái)面采用精密磨削工藝，臺(tái)面的平面度達(dá)到0.02～0.05mm/600mm×600mm，臺(tái)面上按照25mm×25mm孔距均布m6螺紋孔，方便安裝各類位移臺(tái)和調(diào)整架。
更新時(shí)間:2025-01-15
zvb（vibration table：breadboard from zolix）系列是采用韓國大一氣浮支架，配合卓立漢光的光學(xué)平臺(tái)臺(tái)面，組合而成的氣浮式隔振光學(xué)平臺(tái)，整體高度800mm，分為臺(tái)面和支撐兩部分，臺(tái)面采用三層夾心式結(jié)構(gòu)，上臺(tái)面為1cr13鐵磁不銹鋼，上臺(tái)面厚度4～6mm，中間為井字形蜂窩支撐結(jié)構(gòu)，底面為碳鋼板，臺(tái)面具有高剛性和非常優(yōu)秀的隔振效果。上臺(tái)面采用精密磨削工藝臺(tái)面的平面度達(dá)到0.2~0.05mm/600mm×600mm,
更新時(shí)間:2025-01-15
浮式隔振光學(xué)平臺(tái)，由臺(tái)面和支撐兩部分組成。臺(tái)面采用三層夾心式結(jié)構(gòu)，上臺(tái)面為熱變形系數(shù)很小的430系列高導(dǎo)磁鎳合不銹鋼，中間為真蜂窩支撐結(jié)構(gòu)，底面為鋼板，具有高剛性和非常優(yōu)秀的隔振效果。上臺(tái)面按照25mm×25mm孔距均布m6螺紋孔，方便安裝各類位移臺(tái)和調(diào)整架，每個(gè)螺紋孔下方具有獨(dú)立的隔離杯密封，非常方便清潔。
更新時(shí)間:2025-01-15
dvim系列-t型空氣注入式隔振墊震動(dòng)隔離：氣墊隔離 ;固有頻率：（垂直/水平）1.5-2.0hz ;衰減方式：孔式空氣阻尼;roll-off rate[10hz]: -32~-35db ;水平方式：由3個(gè)自動(dòng)調(diào)平閥自動(dòng)調(diào)平系統(tǒng)
更新時(shí)間:2025-01-15
dvia精密主動(dòng)隔振光學(xué)平臺(tái)具有非常優(yōu)秀的隔振性能，特別是在低頻0.5hz- 10hz達(dá)到90%以上的隔振效率，隔振性能優(yōu)異,廣泛應(yīng)用于掃描探針顯微鏡,原子力顯微鏡，掃面隧道顯微鏡，激光干涉儀 ,半導(dǎo)體檢測(cè)設(shè)備，三維形貌分析儀和激光共聚焦顯微鏡等
更新時(shí)間:2025-01-15
nano系列小型主動(dòng)隔振平臺(tái)，專為小型和輕型應(yīng)用而設(shè)計(jì)！自從高分辨率測(cè)量和制造技術(shù)達(dá)到納米尺度以來，振動(dòng)就一直是一個(gè)重要問題。有*消除振動(dòng)干擾是獲得精確和可重復(fù)測(cè)量結(jié)果的關(guān)鍵。解決方法是將儀器與振動(dòng)源隔離開來。
更新時(shí)間:2025-01-15
variobasic 系列主動(dòng)隔振光學(xué)平臺(tái)，兩個(gè)或四個(gè)模塊化手動(dòng)負(fù)載調(diào)節(jié)隔振元件和控制器，適用于大負(fù)載場景安裝在臺(tái)面下方或設(shè)備下方，用于消除低頻震動(dòng)。
更新時(shí)間:2025-01-15
workstation 集成i4的人體工程學(xué)實(shí)驗(yàn)臺(tái)，將i4隔振平臺(tái)與桌面集成在一起的主動(dòng)隔振平臺(tái)桌。
更新時(shí)間:2025-01-15
workstation vario集成vario實(shí)驗(yàn)臺(tái)，集成vario的人體工程學(xué)實(shí)驗(yàn)臺(tái)，下方帶有腳輪便于移動(dòng)，便于實(shí)驗(yàn)。適用于搭配3d輪廓儀、電子顯微鏡等。
更新時(shí)間:2025-01-15
歐庫睿因sandwich 系列重負(fù)載隔振平臺(tái)，重負(fù)載主動(dòng)隔振平臺(tái)，最大負(fù)載1200kg,可放置于光學(xué)平臺(tái)或大型設(shè)備下方，具有良好的負(fù)載以及主動(dòng)隔振性能。
更新時(shí)間:2025-01-15
duo系列 重載主動(dòng)隔振平臺(tái)，重載型主動(dòng)隔振模組、單個(gè)模組可負(fù)載400kg,可多個(gè)模塊并聯(lián)使用，適用于大負(fù)載設(shè)備主動(dòng)隔振。
更新時(shí)間:2025-01-15
ae系列隔音罩 隔離空氣噪聲，適用于相關(guān)設(shè)備的隔除噪音，搭配主動(dòng)隔振平臺(tái)或者光學(xué)平臺(tái)使用，有多種尺寸可以選擇。
更新時(shí)間:2025-01-15
zdvt系列為卓立漢光研發(fā)的桌面型氣浮隔振光學(xué)平臺(tái)，采用半膜片式空氣彈簧技術(shù)，配合鐵磁不銹鋼臺(tái)面和桌面型框架精密裝調(diào)而成， 整體高度211mm，分為氣浮式桌面型框架和臺(tái)面兩部分。
更新時(shí)間:2025-01-15
拼接式隔振平臺(tái)定制型的本質(zhì)還是隔振平臺(tái)，是標(biāo)準(zhǔn)的平臺(tái)按照使用者的需求連接起來，達(dá)到實(shí)際的使用效果，采用拼接的方式，是實(shí)現(xiàn)這一目的的方法。
更新時(shí)間:2025-01-15
nap系列是卓立漢光采用三線擺技術(shù)、層流阻尼技術(shù)所設(shè)計(jì)的高性能氣浮隔振平臺(tái)，豎直方向和水平方向隔振性能好、振動(dòng)恢復(fù)時(shí)間短。
更新時(shí)間:2025-01-15
jbx-8100fs 圓形電子束光刻系統(tǒng)· 最新高精密jbx-8100fs圓形電子束光刻系統(tǒng)，通過全方位的設(shè)計(jì)優(yōu)化，實(shí)現(xiàn)更簡便的操作，更快的刻寫速度，更小的占地面積和安裝空間，并且更加綠色節(jié)能。
更新時(shí)間:2025-01-15
美coherent excistarxs準(zhǔn)分子激光器超緊湊、輕型、高度可靠的紫外線光源
更新時(shí)間:2025-01-15
nanoarch p130是科研3d打印系統(tǒng)，擁有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印層厚，從而實(shí)現(xiàn)超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。
更新時(shí)間:2025-01-15
the oai solar energy meter measures solar simulator irradiance in "sun" units, for example, with one sun equaling 1000 w/m2 at 25 °c at airmass 1.5 global conditions.
更新時(shí)間:2025-01-15
30型uv光源是高效的，可用于各種應(yīng)用。光由橢圓形反射器收集并聚焦在積分/聚光透鏡陣列上，以在曝光平面產(chǎn)生均勻的照明。這種紫外光源提供多種光束尺寸，最大24英寸平方，輸出光譜范圍從220 nm到450 nm，使用適當(dāng)?shù)臒簦òǎ］敵龉β史秶鷱?00瓦到5千瓦。所有oai uv光源都易于配備快速更換過濾器組件，使用戶能夠輕松定制輸出光譜？蛇x配遠(yuǎn)程排氣風(fēng)扇。
更新時(shí)間:2025-01-15
oai 200型光刻機(jī)是一種具有成本效益的高性能掩模對(duì)準(zhǔn)器，采用經(jīng)過行業(yè)驗(yàn)證的組件，使oai成為光刻設(shè)備行業(yè)的導(dǎo)者。 200型是臺(tái)式面罩對(duì)準(zhǔn)器，需要小的潔凈室空間。它為研發(fā)，或有限規(guī)模，試點(diǎn)生產(chǎn)提供了經(jīng)濟(jì)的替代方案。利用創(chuàng)新的空氣軸承/真空吸盤調(diào)平系統(tǒng)，襯底快速平穩(wěn)地平整，用于平行光掩模對(duì)準(zhǔn)和在接觸曝光期間在晶片上的均勻接觸。該系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)一微米分辨率和對(duì)準(zhǔn)精度。
更新時(shí)間:2025-01-15
2012sm型自動(dòng)邊緣曝光系統(tǒng)為使用標(biāo)準(zhǔn)陰影掩模技術(shù)的邊緣珠去除提供了一種經(jīng)濟(jì)高效的方法。 設(shè)計(jì)用于容納8“到300mm的晶片，該工具具有自動(dòng)foup裝載。 掩模和基材切換可以快速且容易地實(shí)現(xiàn)，從而增加該生產(chǎn)工具的通用性和高產(chǎn)量。
更新時(shí)間:2025-01-15
2012sm型自動(dòng)邊緣曝光系統(tǒng)為使用標(biāo)準(zhǔn)陰影掩模技術(shù)的邊緣珠去除提供了一種經(jīng)濟(jì)高效的方法。 設(shè)計(jì)用于容納8“到300mm的晶片，該工具具有自動(dòng)foup裝載。 掩模和基材切換可以快速且容易地實(shí)現(xiàn)，從而增加該生產(chǎn)工具的通用性和高產(chǎn)量。
更新時(shí)間:2025-01-15
兩種型號(hào)的2000型曝光系統(tǒng)包括uv光源，強(qiáng)度控制電源和機(jī)器人襯底處理子系統(tǒng)。 uv光源提供發(fā)散半角<2.0％的可調(diào)強(qiáng)度光束。電源從200w到2,000w。強(qiáng)度控制器傳感器直接連接到光源，用于精確的強(qiáng)度監(jiān)控。機(jī)器人襯底處理系統(tǒng)是微處理器控制的，并且可以被編程以適應(yīng)各種各樣的襯底尺寸。
更新時(shí)間:2025-01-15
oai 5000e型大面積掩光刻機(jī)是一種先進(jìn)的高性能，全自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)器和曝光工具，可為大型平板應(yīng)用提供超精密，頂，亞微米對(duì)準(zhǔn)和分辨率。 其靈活的設(shè)計(jì)允許在各種基材（圓形或方形）上印刷高達(dá)300mm或20“×20”。 曝光系統(tǒng)兼容近，中，或深紫外范圍的光刻膠，并具有計(jì)算機(jī)控制的led顯微鏡照明，在不太理想的觀察環(huán)境中觀察。
更新時(shí)間:2025-01-15
phabler 100 紫外光刻機(jī)是一套低成本的光學(xué)曝光系統(tǒng)，但卻能獲得高分辨率的周期性結(jié)構(gòu)。同傳統(tǒng)的紫外曝光機(jī)類似，涂覆了光刻膠的晶片以接近方式放置在掩膜版下面，被紫外光束照射。由于eulitha公司擁有突破性的phable 曝光技術(shù)，在"phable"模式下，分辨率不再受到衍射的限制，從而曝光出亞微米的線性光柵和二維光柵（六角形和正方形），且曝光結(jié)果非常均勻，質(zhì)量很好。
更新時(shí)間:2025-01-15
raith 150 two可實(shí)現(xiàn)亞5nm的曝光結(jié)構(gòu)，可處理8”晶元及以下樣片。環(huán)境屏蔽罩保證了系統(tǒng)的熱穩(wěn)定性，提高設(shè)備對(duì)實(shí)驗(yàn)室環(huán)境的容忍度，即使在相對(duì)糟糕的實(shí)驗(yàn)室環(huán)境下，也能保證系統(tǒng)的正常穩(wěn)定運(yùn)行。
更新時(shí)間:2025-01-15
raith 150 two可實(shí)現(xiàn)亞5nm的曝光結(jié)構(gòu)，可處理8”晶元及以下樣片。環(huán)境屏蔽罩保證了系統(tǒng)的熱穩(wěn)定性，提高設(shè)備對(duì)實(shí)驗(yàn)室環(huán)境的容忍度，即使在相對(duì)糟糕的實(shí)驗(yàn)室環(huán)境下，也能保證系統(tǒng)的正常穩(wěn)定運(yùn)行。
更新時(shí)間:2025-01-15
德國raith voyager 新一代超高分辨率電子束光刻機(jī),系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)8英寸樣品的高速曝光。系統(tǒng)的穩(wěn)定性是非常關(guān)鍵的指標(biāo)，可保證大面積均勻曝光。該系統(tǒng)外部采用環(huán)境屏蔽罩，即使在稍差的實(shí)驗(yàn)室環(huán)境下，仍然能確保系統(tǒng)具有非常好的熱穩(wěn)定性，提高系統(tǒng)對(duì)外界環(huán)境的容忍度。
更新時(shí)間:2025-01-15
ebpg5150使用了155mm大小的樣品臺(tái)，采用跟ebpg5200一樣的通用光刻平臺(tái)設(shè)計(jì)，對(duì)電子束直寫應(yīng)用進(jìn)行了優(yōu)化。它可以載入不同大小的樣品,包括多片散片以及完整的硅片。
更新時(shí)間:2025-01-15
系統(tǒng)中集成了高精度的激光干涉工作臺(tái)，運(yùn)動(dòng)行程為50 x 50 x 25mm，xy方向定位精度為2nm，可以實(shí)現(xiàn)精確的拼接套刻，拼接套刻精度≤50nm。
更新時(shí)間:2025-01-15
瑞典 mycronic 掩膜版光刻機(jī) fps6100，用于制作高精度掩膜版，廣泛用于半導(dǎo)體，tft-lcd，微電子等行業(yè)。
更新時(shí)間:2025-01-15
英國nanobean nb5 電子束光刻機(jī),具有良好的穩(wěn)定性，平均正常運(yùn)行時(shí)間超過93%.
更新時(shí)間:2025-01-15
minilock-phantom iii 具有預(yù)真空室的反應(yīng)離子刻蝕機(jī)。適用于單個(gè)基片或帶承片盤的基片(3” - 300mm尺寸)，為實(shí)驗(yàn)室和試制線生產(chǎn)環(huán)境提供最先進(jìn)的刻蝕能力。它也具有多尺寸批量處理(4x3”; 3x4”; 7x2”)。系統(tǒng)有多達(dá)七種工藝氣體可以用于刻蝕各種薄膜，如氧化硅、氮化硅、多晶硅、鋁、砷化鎵、鉻、銅、磷化銦和鈦。
更新時(shí)間:2025-01-15
oracle iii由中央真空傳輸系統(tǒng)(cvt)、真空盒升降機(jī)和最多四個(gè)工藝反應(yīng)室構(gòu)成。這些工藝反應(yīng)室與中央負(fù)載鎖對(duì)接，既能夠以生產(chǎn)模式運(yùn)行，也能夠作為單個(gè)系統(tǒng)獨(dú)立作業(yè)。 oracle iii是市場上最靈活的系統(tǒng)，既可以為實(shí)驗(yàn)室環(huán)境進(jìn)行配置(使用單基片裝卸)，也可以為批量生產(chǎn)進(jìn)行配置(使用真空盒升降機(jī)進(jìn)行基片傳送)。
更新時(shí)間:2025-01-15
titan是一套用于半導(dǎo)體生產(chǎn)的十分緊湊、全自動(dòng)化、帶預(yù)真空室的等離子系統(tǒng)。titan具有反應(yīng)離子刻蝕(rie)配置、高密度電感耦合等離子沉積(hdicp)或等離子增強(qiáng)型化學(xué)汽相沉積(pecvd)配置。可對(duì)單個(gè)基片或帶承片盤的基片(3”-300mm)進(jìn)行處理。它還具有多尺寸批量處理功能。價(jià)格適宜且占地面積小。
更新時(shí)間:2025-01-15
美國trion orion iii pecvd 薄膜沉積系統(tǒng)可以在緊湊的平臺(tái)上生產(chǎn)高品質(zhì)的薄膜。獨(dú)特的反應(yīng)器設(shè)計(jì)可以在在極低的功率生產(chǎn)具有優(yōu)異臺(tái)階覆蓋的低應(yīng)力薄膜。該系統(tǒng)可以滿足實(shí)驗(yàn)室和中試生產(chǎn)環(huán)境中的所有安全，設(shè)施和工藝標(biāo)準(zhǔn)要求。
更新時(shí)間:2025-01-15
orion hdcvd 高密度氣相化學(xué)沉積系統(tǒng)采用高密度的化學(xué)氣相沉積技術(shù)，在惰性氣體進(jìn)入口安裝感應(yīng)線圈，周圍布置陶瓷管。射頻創(chuàng)建等離子體,通過氣體環(huán)在襯底表面附近引入揮發(fā)性氣體。當(dāng)惰性氣體與揮發(fā)性物質(zhì)結(jié)合時(shí)，會(huì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，然后在襯底表面沉積一層薄膜.
更新時(shí)間:2025-01-15
德zeiss sigma sem 電子束直寫儀,利用曝光抗蝕劑，采用電子束直接曝光，可在各種襯底材料表面直寫各種圖形，圖形結(jié)構(gòu)（小線寬為10mm），是研究材料在低維度、小尺寸下量子行為的重要工具。廣泛應(yīng)用于納米器件，光子晶體，低維半導(dǎo)體等沿域。
更新時(shí)間:2025-01-15
俄羅斯 optosystem 準(zhǔn)分子激光器：cl7000, 準(zhǔn)分子激光器是傳統(tǒng)的氣體激光器，由于波長短（紫外），短脈沖寬度，高脈沖能量，是激光器家族不可替代的品種！應(yīng)用上，準(zhǔn)分子激光器在脈沖沉積鍍膜（pld），光纖光柵刻寫，lasik，光刻，微納加工等方面占主導(dǎo)的地位。
更新時(shí)間:2025-01-15
denton 磁控濺射及電子束蒸發(fā)薄膜沉積平臺(tái),提供了薄膜工業(yè)中廣泛的配置和沉積模式:電子束蒸發(fā)、電阻蒸發(fā)、濺射、離子鍍和離子輔助沉積。
更新時(shí)間:2025-01-15
法plassys超高真空多腔體電子束鍍膜機(jī)meb550sl3，可以用于沉積ti, ni, au, cr, al, al2o3等金屬及氧化物薄膜，目全球主要超導(dǎo)量子實(shí)驗(yàn)室均使用該設(shè)備制備超導(dǎo)al結(jié)（量子比特和約瑟夫森結(jié)）和量子器件，可以制備大面積、高度穩(wěn)定性和可重復(fù)性超導(dǎo)結(jié)。
更新時(shí)間:2025-01-15
最新產(chǎn)品
- 西門子A5E34621797054控制板 2025/1/15 17:52:48
- 日本得樂TECLOCK橡膠硬度計(jì) 2025/1/15 17:52:33
- 西門子SIENENSA5E37684782功率單元??10多萬 2025/1/15 17:52:28
- 西門子A5E34890686002升型號(hào)A5E34621797002單元控制板 2025/1/15 17:52:11
- 西門子A1A10000441.00通訊板 2025/1/15 17:51:51
- 西門子LDZ14501001.140功率單元 2025/1/15 17:51:35
- 西門子A5E36464150001控制板 2025/1/15 17:51:20
- 西門子A5E02625805電源 2025/1/15 17:51:03
- 日本得樂TECLOCK橡膠硬度計(jì) 2025/1/15 17:50:59
- 西門子A5E36717803驅(qū)動(dòng)板 2025/1/15 17:50:43
- 西門子A5E32539903功率單元 2025/1/15 17:50:30
- 西門子LDZ094726C過溫保護(hù)器 2025/1/15 17:50:11
- 日本得樂TECLOCK橡膠硬度計(jì) 2025/1/15 17:50:08
- 日本得樂TECLOCK橡膠硬度計(jì) 2025/1/15 17:49:19
- 日本Teclock得樂橡膠硬度計(jì) 2025/1/15 17:40:08
- 優(yōu)勢(shì)供應(yīng)#歐洲原廠進(jìn)口#FRONIUS導(dǎo)絲管 2025/1/15 17:39:35
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